[实用新型]悬浮柔性磨抛机构无效

专利信息
申请号: 201020208229.1 申请日: 2010-05-21
公开(公告)号: CN201736095U 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 马宏权;李宝印 申请(专利权)人: 马宏权;李宝印
主分类号: B24B9/16 分类号: B24B9/16;B24B41/00
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人: 梁永宏
地址: 523850 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 悬浮 柔性 机构
【说明书】:

技术领域:

实用新型涉及宝石磨抛技术领域,尤其是指一种自动宝石磨抛机用的悬浮柔性磨抛机构。

背景技术:

宝石的磨抛和抛光的好坏对宝石的价值是有很大影响的,在宝石加工业中,普遍采用的是传统的手工加工法或半自动机械加工,由于要靠手工操作,宝石的折光面无法标准化,这也是目前宝石加工的一大问题,粗糙的加工极大地降低了宝石的价值。

为了提高宝石的加工质量,国内的宝石加工行业也慢慢开始采用半自动或全自动设备进行宝石的磨抛和抛光加工。现有的宝石自动磨抛机或抛光机,多采用精密螺杆加高精度滑轨配以固定结构进行磨抛,其结构的连接均为刚性连接,如图1所示,其分度机构包括升降底板1及与升降底板1垂直设置的治具底板2,升降底板1的两端设置有侧连接板3,该侧连接板3上设置有可旋转的铰接轴4,治具底板2的两端设有旋转板5,旋转板5与铰接轴4的内端连接;进行磨抛加工时,升降底板1上下运动以调节磨抛时的进刀量,如果进刀量过大或过快,易造成石坯破裂,抛光时更是要准确对刀定位、微量缓慢进给,否则,在对石坯进行磨抛加工时,极易发生碎石、丢石的现象,严重影响宝石加工的产量及工效。

实用新型内容:

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能有效降低碎石、丢石的现象的悬浮柔性磨抛机构。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:

悬浮柔性磨抛机构,包括机架、设置在机架上的底座及设置在底座中部的磨盘,磨盘下方设有驱动磨盘旋转的电机,磨盘上方设有分度机构,磨盘旁侧设有升降螺杆,分度机构活动连接在升降螺杆上端,分度机构包括升降底板及与升降底板垂直设置的治具底板,升降底板的两端设置有侧连接板,该侧连接板上设置有可旋转的铰接轴,治具底板的两端设有旋转板,所述铰接轴设置有悬浮复位装置,旋转板与悬浮复位装置连接。

其中,所述悬浮复位装置包括直线滑座及设置于直线滑座的滑块,直线滑座与所述铰接轴的内端连接,滑块与所述旋转板连接。

其中,所述悬浮复位装置还包括设置于所述铰接轴内端的弹簧连接件,弹簧连接件的内侧面与滑块的端面相对应;

弹簧连接件的内侧面与滑块的端面之间设有复位弹簧,该复位弹簧的两端分别与弹簧连接件的内侧面和滑块的端面连接。

其中,所述弹簧连接件的内侧面开设有用于防止复位弹簧偏移的卡位凹孔。

其中,所述直线滑座为交叉滚子滑座,滑块为与该交叉滚子滑座相对应的滑块。

其中,所述悬浮复位装置还包括设置于所述铰接轴内端的第二弹簧连接件,第二弹簧连接件的上端与旋转板的上端相对应;

第二弹簧连接件的上端与旋转板的上端之间设有复位弹簧,该复位弹簧的两端分别与第二弹簧连接件的上端和旋转板的上端连接。

本实用新型的有益效果在于:

本实用新型提供了一种悬浮柔性磨抛机构,包括机架、设置在机架上的底座及设置在底座中部的磨盘,磨盘下方设有驱动磨盘旋转的电机,磨盘上方设有分度机构,磨盘旁侧设有升降螺杆,分度机构活动连接在升降螺杆上端,分度机构包括升降底板及与升降底板垂直设置的治具底板,升降底板的两端设置有侧连接板,该侧连接板上设置有可旋转的铰接轴,治具底板两端设有旋转板,所述铰接轴设置有悬浮复位装置,旋转板与悬浮复位装置连接。本实用新型所述悬浮柔性磨抛机构在现有的分度机构上加装悬浮复位装置,当进行磨抛加工时,如果进刀量过大或过快,与悬浮复位装置连接的铰接轴和旋转板会发生一定的相对位移,从而起到缓冲的作用,用于减小石坯与磨石之间的作用力,避免石坯与磨石之间的作用力过大而发生石坯破裂、碎石或丢石现象,该悬浮复位装置的复位功能用于保证旋转板与铰接轴最终保持在对刀时的初始位置,以保证磨抛加工的加工精度。

本实用新型所述悬浮复位装置不仅能保证宝石的磨抛或抛光具有较高的加工精度,还大大减少了石坯破裂、碎石或丢石现象,提高了宝石加工的生产效率和产品品质。

附图说明:

图1为现有磨抛机构的立体结构分解示意图;

图2为本实用新型的立体结构分解示意图;

图3为本实用新型所述分度机构的立体结构示意图;

图4为本实用新型所述分度机构的立体结构分解示意图;

图5为本实用新型所述分度机构隐藏了升降底板时的主视图结构示意图。

具体实施方式:

为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例与附图对本实用新型作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

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