[实用新型]一种新型燃气比例阀有效

专利信息
申请号: 201020187941.8 申请日: 2010-05-06
公开(公告)号: CN201651476U 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 程振中 申请(专利权)人: 程振中
主分类号: F16K17/36 分类号: F16K17/36;F16K17/22;F24H9/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362500 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 燃气 比例
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种比例阀,具体涉及的是陶瓷窑炉专用的一种新型燃气比例阀。

背景技术

燃气比例阀是工业窑炉降低能耗的核心设备,配合计算机比例自动控制系统,将自动实现燃烧过程助燃空气和天然气的等比例混合,现有目前的窑炉设备中还没有实行专用的比例阀,即天然气和助燃气空气在满足不同烧成气氛的过程中大大浪费了天然气或其它燃气。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种新型燃气比例阀,它能够有效地利用助燃空气压力调节天然气气压,在线完成助燃空气和天然气的比例调节,以满足不同烧成气氛的比例,实现助燃空气和天然气的最佳混合节能燃烧,并消除了在大流量和小流量气体控制点的调节死区。

本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种新型燃气比例阀,主要包括上壳、下壳、主调节皮膜及平衡调节皮膜;上壳和下壳是通过螺栓紧固起来,并在上壳及下壳的连接处设有主调节皮膜;上壳设有调节空气入口,上壳的内腔内还设有微调弹簧,微调弹簧的上端是固定于调节支杆上,调节支杆与上盖连接起来,上盖是盖设于上壳的上端口处;微调弹簧的下端是设置在主调节皮膜上表面上,并通过支杆穿过主调节皮膜,固定在T形架上,所述T形架的上表面是贴合在主调节皮膜的下表面上;T形架的下面与平衡调节皮膜的上表面接触;

平衡调节皮膜是设在下壳空腔内,下壳内腔设有天然气入口及天然气出口,所述天然气入口通道及天然气出口通道是通过一道小口将其两条通道相贯通起来,下壳内还设有被动弹簧,所述被动弹簧的上端与支架的下表面连接起来,支架是穿过小口且支架的下端外缘是与小口相抵触的,被动弹簧的下端与下盖相连接在一起,下盖是盖设在下壳的下端口处;所述支架的上表面是与平衡调节皮膜的下表面相接触;支架是一端面大另一端面小的形状;

所述调节支杆、T形架及支架其总体结构是在本实用新型燃气比例阀内腔中呈一直线排列起来;

本实用新型的有益效果体现在于:通过本实用新型的结构设计,设计两道调节皮膜,即主调节皮膜及平衡调节皮膜,主调节皮膜通过空气入口进入的空气压力感应出助燃空气压力调节天然气压力;平衡调节皮膜同时受力于助燃空气和比例阀出口天然气压力,实现比例阀出口天然气压力的稳定;以满足不同烧成气氛的比例,使助燃空气和天然气得到最佳混合节能燃烧。

附图说明

下面结合附图对本实用新型进行详细的说明;

图1为本实用新型结构示意图;

具体实施方式

如图1所示,一种新型燃气比例阀,主要包括上壳4、下壳11、主调节皮膜12及平衡调节皮膜13;上壳4和下壳11是通过螺栓紧固起来,并在上壳4及下壳11的连接处设有主调节皮膜12;上壳4设有调节空气入口3,上壳4的内腔内还设有微调弹簧2,微调弹簧2的上端是固定于调节支杆14上,调节支杆14与上盖1连接起来,上盖1是盖设于上壳4的上端口处;微调弹簧2的下端是设置在主调节皮膜12的上表面上,并通过支杆15穿过主调节皮膜12,固定在T形架5上,所述T形架5的上表面是贴合在主调节皮膜12的下表面上;T形架5的下表面与平衡调节皮膜13的上表面接触;

平衡调节皮膜13是设在下壳11空腔内,下壳11内腔设有天然气入口10及天然气出口6,所述天然气入口10通道及天然气出口6之间的通道是通过一道小口16将其两条通道相贯通起来,下壳11内还设有被动弹簧7,所述被动弹簧7的上端与支架9的下表面连接起来,支架9是穿过小口16且支架9的下端外缘是与小口16相抵触的,被动弹簧7的下端与下盖8相连接在一起,下盖8是盖设在下壳11的下端口处;所述支架9的上表面是与平衡调节皮膜13的下表面相接触;支架9是一端面大另一端面小;

所述调节支杆14、T形架5及支架9其总体连接起来的结构是在本实用新型燃气比例阀内腔中呈一直线排列起来;

本实用新型的工作原理是:利用从调节空气入口3进入的助燃空气压力,并将这一助燃空气压力施加到主调节皮膜12上,从而主调节皮膜12能感应助燃空气压力调节天然气压力;天然气是从天然气入口10流入,并通过一定的空气压力从小口16流入天然气出口6向外流出天然气;平衡调节皮膜13同时受力于助燃空气和本实用新型比例阀天然气出口6天然气压力,实现本实用新型比例阀天然气出口6处天然气压力的稳定。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制,如对本实用新型的技术方案进行修改或等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。

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