[实用新型]整列针、整列针清洗装置及整列针清洗系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种整列针、整列针清洗装置及整列针清洗系统。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display；以下简称：TFT-LCD)的生产过程中，需进行光刻工艺。光刻工艺首先需在玻璃基板上涂布均匀的光刻胶，然后进行后续工艺。

现有涂胶工艺有两种，一种是直涂式，直接在玻璃基板上涂布均匀的光刻胶，无需对玻璃基板进行离心旋转；另一种是预涂式，在玻璃基板上部分区域涂布光刻胶，然后利用离心设备将玻璃基板旋转，使得玻璃上预涂的光刻胶均匀覆盖整个玻璃基板，且具有较好的平整度。

玻璃基板经过离心设备旋转后，在进入下一道工序前，需要对流水线上的玻璃基板进行整列，避免由于流水线上基板偏移而导致下一道工序中玻璃基板被撞碎。现有的基板整列装置是采用气动方式即利用控制气阀开关信号来推动气缸往复运动，带动安装在支架上的整列针(Pin)对基板从前后左右四个方向进行推移，当基板偏移时，由玻璃基板四周的整列针将基板推移到合适位置。

涂胶工序中，光刻胶会不可避免地附着在玻璃基板的侧面，且具有较强的粘性，当整列针接触玻璃基板对其进行整列后，整列针上会粘黏光刻胶。为了保证后续整列过程的顺利进行，通常应用整列针清洗装置对整列针进行清洗，去除其粘黏的光刻胶。

现有的整列针清洗装置中，喷射清洗液对整列针进行清洗的四个清洗针分布在垂直于整列针中心线的平面的四个方向上，对整列针进行清洗时，相对的两个清洗针所喷射出来的清洗液是处于同一直线的，整列针在清洗过程中始终处于静止状态，整列针上粘黏的光刻胶难以清洗干净。若长时间清洗不干净，光刻胶会在整列针上形成硬块，进行整列时有可能将玻璃基板撞碎。而且，由于整列针上附着的光刻胶会对玻璃基板的侧面造成污染，当玻璃基板进入到后续工艺的处理设备时，将对该处理设备造成污染。

实用新型内容

本实用新型提供一种整列针、整列针清洗装置及整列针清洗系统，在应用整列针清洗装置清洗整列针的同时促使整列针旋转，将整列针清洗干净。

本实用新型提供一种整列针，包括用于与基板接触的接触柱体，在所述接触柱体上设置有一能够带动所述接触柱体进行旋转的旋转装置。

如上所述的整列针，其中，所述旋转装置为设置在所述接触柱体上的至少一个能够基于空气流动而带动所述接触柱体进行旋转的叶轮。

如上所述的整列针，其中，所述接触柱体上还设置有用于带动所述接触柱体以所述接触柱体的中心线为轴进行旋转的外螺纹套，所述叶轮设置在所述外螺纹套的外表面上。

如上所述的整列针，其中，所述叶轮的延长线与所述外螺纹套的切线平行。

如上所述的整列针，其中，所述叶轮的延长线与所述外螺纹套的切线的夹角为α，其中0＜α≤90°。

如上所述的整列针，其中，在所述外螺纹套的外表面上设置有多个所述叶轮，且多个所述叶轮均匀分布。

本实用新型提供一种整列针清洗装置，包括用于对整列针上用于与基板接触的接触柱体进行清洗的基座，所述基座的一端设置有用于容置所述接触柱体的凹槽，所述凹槽的侧壁上设置有用于向容置在所述凹槽内的接触柱体喷射清洗液的清洗装置，在所述基座上方还设置有一换风管，所述换风管能够促使空气流动而带动所述叶轮进行旋转。

如上所述的整列针清洗装置，其中，所述基座的另一端还设置有一用于回收清洗液的负压排气管。

如上所述的整列针清洗装置，其中，所述换风管与所述负压排气管连通，用于通过吸附所述接触柱体周围的空气触发所述接触柱体旋转。

如上所述的整列针清洗装置，其中，所述换风管与一鼓风设备连接，用于通过向所述接触柱体喷气触发所述接触柱体旋转。

如上所述的整列针清洗装置，其中，所述换风管包括两个支管，所述两个支管的换风口分别位于所述接触柱体的两侧，且相对设置。

本实用新型提供一种整列针清洗系统，包括上述的整列针和整列针清洗装置。

本实用新型提供的整列针、整列针清洗装置及整列针清洗系统，通过对整列针和整列针清洗装置结构上的匹配改变，使得整列针清洗装置在清洗整列针的同时，促使整列针旋转，更好地达到清洗目的；解决了原整列针清洗不干净而给后序带来的问题；避免由于整列针清洗不干净长期处于空气中形成硬块而撞碎玻璃基板，提高良品率。同时还可以避免污染玻璃基板侧面，减少当玻璃基板进入后续工序时，对后续工序的设备造成的污染。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的整列针结构示意图；

图2为图1的剖面示意图；