[实用新型]多晶硅原料水洗槽

说明书

技术领域：

本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，尤其是涉及多晶硅原料的水洗槽。

背景技术：

现有的多晶硅原料处理过程中，设有原料清洗工序，目的是清洗原料中含有的酸碱及其它杂质，该工序通常的做法是将原料放入清洗槽内通入清水进行清洗。由于目前清洗槽设计大多不合理，如设计成阶梯状，存在着两个主要问题：其一，漂浮物流动相互影响，其二，下部水成为死水，起不到清洗作用。这样，清洗效果不理想，因而造成水资源浪费严重。

发明内容：

本实用新型的目的是提供一种多晶硅原料水洗槽，它可克服现有技术的缺陷，做到漂浮物不相互影响，将整个清洗水的形成活动水系，从而既保证清洗效果，又节省水资源。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：多晶硅原料水洗槽，清洗槽下部为支架，清洗槽上面开口、四周及底面为槽壁，其特征在于：清洗槽被下隔板分离为若干槽间，下隔板的下部与底面的槽壁连接；在清洗槽的首槽间的上部设有进水口，进水口与进水管相接，在中间槽间下隔板的前部还设有上隔板，上隔板的下部不与底面的槽壁连接，在每个槽间下部设有排水口，排水口通向排水管。

本实用新型还可通过以下方案进一步实现：

防水上隔板的上端还设有上隔板上沿。

上隔板与下隔板间相距1-6厘米。

上隔板上沿的宽度为5-10厘米。

本实用新型具有以下有益效果：1、省水，由于原料的清洗方向与水流方向相反，清水先经过最后需清洗的原料，最后经过刚需清洗的原料，从而可有效地节省水资源。2、清洗效果好。各槽间漂浮物相互不影响，整体为活水，重杂物与轻杂物均可通过水洗槽得到彻底的清洗，从而确保多晶硅原料的纯净度。

附图说明：

图1为本实用新型结构示意图。

图中：1为排水管，2为排水口，3为支架，4为上隔板，5为上隔板上沿，6为下隔板，7为槽壁。

具体实施方式：

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，并使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明。

如图1所示，清洗槽为立方体结构，清洗槽下部为支架3，清洗槽上面开口、四周及底面为槽壁7；清洗槽被下隔板6分离为A、B、C、D等槽间，在B槽间、C槽间的前部还设有上隔板4，上隔板4的下部不与底面的槽壁7连接，下隔板6的下部与底面的槽壁7连接，上隔板4与下隔板6间相距一定的距离(如1-6厘米)，在每个槽间下部设有排水口2，排水口2通向排水管1。为防各相邻的槽间的水互溅，防水上隔板4的上端还设有上隔板上沿5，上隔板上沿5为水平放置的板，宽度可设置为5-10厘米。在清洗槽A槽间的上部设有进水口，进水口与进水管相接。

作业时，将待清洗的多晶硅原料放入C槽间，关闭A、B、C各槽间的排水口，向A槽间内通水，此时，水经A槽间的上隔板4的下部流向下隔板6，经下隔板6的上部流入B槽间，再从B槽间的上隔板4的下部流向下隔板6，经下隔板6的上部流入C槽间，各槽间的漂浮物相互不影响，而C槽间上部的漂浮物(轻杂物)通过上隔板4，经D槽间的排水口2流入排水管1。这样，原料的清洗方向与水流方向相反，清水先经过最后需清洗的原料，最后经过刚需清洗的原料，从而可有效地节省水资源。当原料在C槽间放置5分钟左右时，取出原料，转入B槽间，再放置5分左右，取出原料转入A槽间，在A槽间放置5分钟左右，即可，完成清洗。当出现重杂物时，可打开各槽间的排水口2，将重杂物导入排水管1。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求所界定的保护范围为准。