[实用新型]真空泵系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空泵系统，尤指一种达成泵空载运转时节能的真空泵系统。

背景技术

真空泵的主要目的，是在创造低于大气压力的真空环境，借以营造更加洁净的环境、良好的工艺及产品质量，因此真空泵被广泛应用于石化工业、制造业以及医疗业环境中。

在公知抽真空系统建制下，当工艺腔室真空条件已达成，便切断泵与工艺腔室的连通，而此同时真空泵是处于空载运转状态。因吸入侧与排出侧存在着颇大压差，此空载运转耗功很大。

中国台湾专利公告号I267581揭露一种真空排气装置，如图1所示，其主要架构为一逆止阀2设于一主真空泵1的排出侧，并加装一辅助真空泵3与逆止阀2并联。通过辅助真空泵3将主真空泵1的排出侧压力降低，缩小吸入侧与排出侧压差，以节省主真空泵1于空转状态下的能量消耗。

然而，上述公知解决方案需额外提供一真空泵，显然所费不赀，而且此额外真空泵亦有维修保养的必要，更增添系统整体成本负担，因此并非十分理想。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种真空泵系统，使能节省真空泵于空载运转时的耗电。

为达成上述目的，本实用新型的技术解决方案是：

一种真空泵系统包括一第一连通管路、一第二连通管路、一第三连通管路、一第一控制阀、一真空泵、及一逆止阀。上述真空泵包括有一吸入侧、与一排出侧。

上述第一连通管路分别连接于第一控制阀的一出气端与真空泵吸入侧，第二连通管路分别连接于第一控制阀的一入气端与真空泵排出侧，第三连通管路分别连接于真空泵排出侧与逆止阀的一入气端。真空泵的吸入侧与排出侧之间通过第一控制阀选择式连通。上述逆止阀是设于第二连通管路之后。

上述真空泵的吸入侧可通过一第四连通管路而连通至一工艺腔体，且第四连通管路上可组设有一第二控制阀。

通过上述系统，当真空泵吸入侧所连通的工艺腔体已达所需压力，且连接于工艺腔体与真空泵之间的第二控制阀已关闭，真空泵处于空载运转时，此时第一控制阀即会打开，因真空泵排出侧气体再度被导回吸入侧，气体于泵内部循环、两端压力获得平衡，避免了排出侧气体不断被重复压缩而耗功的情形，整个系统耗电也获得极大改善。

真空泵系统还可包括一压力传感器、与一控制器，压力传感器是设于工艺腔体内，控制器分别电连接于压力传感器与第二控制阀，当控制器接收到压力传感器反应工艺腔体已达目标压力的讯号，即关闭第二控制阀。

关于第一控制阀的自动控制设计至少有以下两种。一为，通过上述第二控制阀的控制器来同时控制第一控制阀；或者，另设置一专用控制器负责第一控制阀的开闭。此两种设计皆可设定当接收到工艺腔体与真空泵之间的第二控制阀已关闭的讯号，自动打开第一控制阀，使系统进入节能模式。

真空泵系统还可包括一消音器，组设于逆止阀的出气端。

本实用新型的有益效果是，相较于公知的现有专利案需加装一额外真空泵，本实用新型仅需加装一电磁阀，不仅初期制造成本低，后续维修成本显然亦为一优势。

附图说明

图1是公知真空泵系统示意图；

图2是本实用新型第一较佳实施例的真空泵系统示意图；

图3是本实用新型第二较佳实施例的真空泵系统示意图。

主要元件符号说明

主真空泵1                逆止阀2

辅助真空泵3

工艺腔体11               真空泵12

吸入侧121                排出侧122

第一控制阀13             入气端131，141，151

出气端132，142，152      第二控制阀14

逆止阀15                 消音器16

控制器17，19             压力传感器18

第一连通管路L1           第二连通管路L2

第三连通管路L3            第四连通管路L4

具体实施方式

参考图2，图中为半导体工艺所使用的抽真空系统，包括有半导体相关的工艺腔体11、一真空泵12、一第一控制阀13、一第二控制阀14、一逆止阀15、一消音器16、一控制器17、及一压力传感器18。