[实用新型]一种太阳能电池表面三层减反钝化膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池技术领域，尤其是一种太阳能电池表面三层减反钝化膜。

背景技术

太阳能电池工艺中，表面减反膜的工艺是很重要的一步，它直接决定了太阳能电池能吸收了多少太阳光。

传统的太阳能电池表面减反膜是采用氮化硅薄膜，氮化硅作为表面减反膜的特点是，工艺简单，易于产业化生产，成本较低，但缺点也很明显是：氮化硅作为减反膜在电池和组件上，氮化硅薄膜的折射率与厚度无法同时匹配到最佳值，导致组件端在封装后存在一定的封装损失；同时由于主要考虑氮化硅薄膜的光学性能，因此在钝化效果上也无法达到最佳，造成电池效率一定程度上的损失；而且传统的氮化硅减反膜在折射率与厚度的设计上，从电池角度与组件角度分别考虑存在较大的差异，所以需要一种新的减反膜设计来减少这种差异造成的损失。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：为了降低太阳电池表面的反射率，提高钝化效果，并使之能与组件相匹配，减少组件封装损失，本实用新型提供一种一种太阳能电池表面三层减反钝化膜。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种太阳能电池表面三层减反钝化膜，该减反膜是在硅片衬底表面上沉积一层第一氮化硅薄膜，在第一氮化硅薄膜表面上再沉积一层第二氮化硅薄膜，再在第二氮化硅薄膜表面上沉积一层二氧化硅薄膜。

为了使太阳能电池表面的钝化效果提高，第一氮化硅薄膜的厚度为10～50纳米，折射率为2.5～3.0。

为了降低太阳能电池表面的折射率，第二氮化硅薄膜的厚度为30～100纳米，折射率为1.8～2.2。

为了使得封装后不因折射率不匹配而造成光学损失，二氧化硅薄膜的厚度为5～200纳米，折射率为1.1～2.0。

本实用新型的有益效果是，本实用新型采用了多层增透膜设计，可以提高太阳能电池表面钝化效果，降低太阳能电池表面反射率。二氧化硅薄膜的折射率与组件封装材料EVA及玻璃的折射率基本相同，所以封装后不会因折射率不匹配而造成的光学损失，二氧化硅薄膜与EVA材料性质相同，在组件层压时，界面处会有更好的接合，由于第二氮化硅薄膜及二氧化硅薄膜的存在，使得第一氮化硅薄膜在工艺设计时可以充分考虑钝化效果，使太阳电池的表面钝化效果提高，从而提升电池效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型一种太阳能电池表面三层减反钝化膜的结构示意图。

图中：1.硅片衬底，2.第一氮化硅薄膜，3.第二氮化硅薄膜，4.二氧化硅薄膜。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示的本实用新型一种太阳能电池表面三层减反钝化膜的实施例，一种太阳能电池表面三层减反钝化膜，是在硅片衬底1表面上沉积一层第一氮化硅薄膜2，在第一氮化硅薄膜2表面上再沉积一层第二氮化硅薄膜3，再在第二氮化硅薄膜3表面上沉积一层二氧化硅薄膜4，形成三层减反膜。其制作的方法如下：

第一步，在制绒后的硅片衬底1表面上用等离子体化学气相沉积法(PECVD)沉积一层第一氮化硅薄膜2，该层的厚度为20纳米，折射率为2.5，是作为太阳电池表面的钝化层，同时再配合上面的其他两层薄膜结构形成高效减反结构；

第二步，在第一氮化硅薄膜2表面上用等离子体化学气相沉积法(PECVD)再沉积一层第二氮化硅薄膜3，该层的厚度为40纳米，折射率为1.9，主要作用是匹配折射率，增加电池表面的光吸收；

第三步，将前面制作好的表面清洗、制绒、扩散，再在第二氮化硅薄膜3表面上用等离子体化学气相沉积法(PECVD)沉积一层二氧化硅薄膜4，该层的厚度为50纳米，折射率为1.46，主要作用是形成表面减反结构，使三层膜配合形成一套完整的表面减反结构。

以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。