[实用新型]生产平板太阳能吸热镀膜板的装置无效

专利信息
申请号: 201020147124.X 申请日: 2010-03-31
公开(公告)号: CN201648513U 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 甘国工;惠述伟;徐胜洋 申请(专利权)人: 甘国工
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 成都立信专利事务所有限公司 51100 代理人: 江晓萍
地址: 610100 四川省成都市龙泉驿区经济*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 生产 平板 太阳能 吸热 镀膜 装置
【说明书】:

技术领域:

实用新型涉及太阳能光热利用领域,特别涉及的是生产平板太阳能吸热镀膜板的装置。

背景技术:

太阳能资源是21世纪的新能源,太阳能制冷、太阳能热水器、太阳能发电、海水净化等都是重要的应用领域。选择性吸热薄膜具有可见光-近红外光区高吸收率、红外光区高反射率的性能优点,其生产方法及装置成为太阳能利用技术的重要研究方向,目前所采用太阳能选择性吸热薄膜的生产方法有以下几种类型,且都具有相应的局限性:

玻璃管真空管型:将直径不同的两个玻璃管的两端封接在一起,两管之间的空间形成封接时抽成真空,内管的外壁沉积有太阳能吸热涂层,吸收太能辐射能而使温度升高,内部通水带走热能,完成光热转换过程。其不足之处在于:碰撞易碎,断水时干烧易炸管,同时在建筑节能一体化时不宜作为建筑外壁、房顶。

普通平板吸热涂层:采用电镀、刷涂等方式在金属基片上形成吸热涂层,其不足之处在于外红光发射率高,太阳能吸收率低,太阳能利用效率低,同时这种生产方式对环境有一定污染。

电子枪蒸发和离子源辅助的方式沉积太阳能吸热涂层,这种方式具有沉积速率高的优势。其缺点是单个电子枪所获得的镀材的蒸发云不足以覆盖基片的幅宽,需两支电子枪合并使用才能满足宽度上的均匀性,同时由于沉积速率高,膜层厚度控制困难,对于沉积金属层厚度仅为10nm左右的介质-金属干涉膜组类型的太阳吸热膜层,光学厚度精度在2至3nm左右时的控制更难实现。

实用新型内容:

鉴于以上原因,本实用新型的目的是为了克服以上不足,提供一种能高效率的生产膜层厚度控制方便、工艺实现灵活、大面积(单张镀膜板的长度方向大于600毫米、宽度方向大于300毫米)的平板太阳能吸热镀膜板,环境污染程度小的生产平板太阳能吸热镀膜板的装置。

本实用新型的目的是这样来实现的:

本实用新型生产平板太阳能吸热镀膜板的装置,包括前真空锁定室、前保持室、至少有三组磁控溅射靶与相应的溅射腔室的能在基片上依次沉积由金属膜组成的红外光波反射层/至少一组由金属膜或金属介质复合膜与介质膜组成的干涉膜堆/减反射层、或者在基片上依次沉积由金属膜组成的红外光波反射层/吸热半导体材料膜或金属介质复合材料膜/减反射层、以此在基片上形成太阳能吸收功能膜的连续镀膜室、后保持室、后真空锁定室,磁控溅射靶及靶材,电源,工艺气体进气管及控制系统,真空抽气系统,基片传送机构,其特征是基片以断续方式快速通过前保持室和前真空锁定室和同样以断续方式快速通过后保持室和后真空锁定室的传送机构是电机拖动转动辊轴,辊轴表面摩擦传送基片,在大气与前真空锁定室之间、后真空锁定室与大气之间有真空阀门,前真空锁定室与前保持室之间,后保持室与后真空锁定室之间有真空阀门,前保持室与连续镀膜室之间、连续镀膜室与后保持室之间有让基片分批次按生产节奏进入连续镀膜室或退出连续镀膜室的真空阀门。该装置能在金属基片上磁控溅射沉积太阳能吸收功能膜层,即从基片向外依次沉积红外光波反射层(金属膜)/至少一组由金属膜或金属介质复合膜与介质膜组成的干涉膜堆/减反射层(介质膜),或者从基片向外依次沉积红外光波反射层(金属膜)/吸热半导体材料膜或金属介质复合材料膜/减反射层(介质膜)。装置包括至少五个镀膜功能室,分为前真空锁定室、前保持室、连续镀膜室(前、后部分别设有缓冲室)、后保持室、后真空锁定室,它们之间有真空阀门,这些阀门的开启和关闭使各室都能建立起镀膜工艺所需的1-9×10-1Pa真空度,在大气与前(后)真空锁定室之间,前(后)真空锁定室与前(后)保持室之间阀门开启关闭,基片在转动辊的传送下呈一片一片的或一批一批的方式有节奏的快速进入(退出)各室,前(后)保持室与连续镀膜室之间的阀门开启关闭,基片在转动辊的传送下呈一片一片的或一批次多片一批次多片的方式有节奏的快速的进入(退出)连续镀膜室。

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