[实用新型]微透镜防伪标识无效
申请号: | 201020143542.1 | 申请日: | 2010-03-29 |
公开(公告)号: | CN201765751U | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
发明(设计)人: | 侯德胜 | 申请(专利权)人: | 侯德胜 |
主分类号: | G09F3/02 | 分类号: | G09F3/02 |
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地址: | 610015 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 防伪 标识 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种采用微透镜的防伪标识,具体地说,是由微透镜阵列与微图文阵列重叠组成的双层图形复合结构防伪标识。
背景技术
目前,应用广泛的防伪标识是激光全息防伪标识,虽然其图形具有立体感,但属于单层图形结构。单层图形结构的激光全息防伪标识,通过一次模压工艺即可批量生产。由于激光全息防伪标识的使用时间已经很长,其生产工艺已经被众多的生产厂家所掌握,近年来激光全息防伪标识已经逐步失去防伪性能。
发明内容
为了克服激光全息防伪标识的不足,本实用新型提供一种微透镜防伪标识,它具有双层图形复合结构,具有微图文放大效果,具有特殊的动态识别特征。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:以微透镜阵列作为放大元件,按一定条件重叠在微图文阵列的上面,形成复合结构。
微透镜阵列为制作在透明基材表面上的浮雕图形结构,其单元微透镜可以是连续曲面微透镜,也可以是二元相位微透镜。为了方便制作和生产,本实用新型采用二元相位微透镜阵列。阵列中的单元微透镜按行距和列距相等的方式排列。
微图文阵列也为制作在其基材表面上的浮雕图形结构,其单元图文的种类,包括图案、标志、文字、数字、符号等。单元图文按行距和列距相等的方式排列。
微透镜阵列的行距和列距与微图文阵列的行距和列距之间的关系是:不 相等,但相接近。
微透镜阵列浮雕图形结构的制作工艺为:首先是用计算机设计和绘制微透镜阵列,再用微光刻工艺制版,经过电铸金属版,利用模压、热压等已有技术将微透镜阵列浮雕结构制作在透明的薄膜或薄片表面上。
微图文阵列浮雕图形结构的制作工艺为:首先是用计算机设计和绘制微图文阵列,再用微光刻工艺制版,然后根据所采用的不同基材,选用不同的后续工艺,主要后续工艺有以下几种:
(1)通过电铸金属版和模压工艺等已有技术,将微图文阵列浮雕结构制作在塑料薄膜基材表面上,成为粘贴膜、烫印膜、转移膜等多种实用形式的薄膜;
(2)通过电铸金属版和热压工艺等已有技术,将微图文阵列浮雕结构制作在塑料、有机玻璃等热熔性材料的平整表面上;
(3)通过制作冲压模具,再利用已有冲压工艺技术,将微图文阵列浮雕结构制作在平整的金属表面上。
在上述工艺中,微透镜阵列和微图文阵列都分别采用计算机设计和绘制,再利用微光刻工艺制版。这种工艺的好处是,能够制作出尺寸很小的单元微透镜和单元微图文,例如尺寸小到微米级的单元图形。微图文阵列也可以采用印刷工艺制作,但由于受到油墨渗透等因素的影响,印刷制作的单元微图文的尺寸不可能做到太小。
将微透镜阵列重叠复合在微图文阵列上时,要符合以下两个条件:
(1)使微透镜阵列的行列方向与微图文阵列的行列方向一致;
(2)使微透镜阵列与微图文阵列两层图形之间的距离与设计的透镜物距一致。
微透镜阵列与微图文阵列按上述条件重叠复合为一个整体后,可以看见在两层图形公共区域的周围存在明显的视觉边框,在边框内部形成一个观察窗口,在观察窗口中呈现出微图文的放大图像,这就是微透镜阵列作为放大元件对微图文阵列产生的放大效果。并且根据预先的设计,被放大的图像分为正立放大像和倒立放大像两种类型。
这两种类型的放大像分别具有各自独有的动态识别特征,即在微透镜防伪标识整体平移或倾斜的过程中,或者在人眼偏移的过程中,可以看见被放大的微图文也同时在观察窗口中移动,观察窗口中原有的图像会从观察窗口 的一个边框逐渐移出,而从观察窗口对面的边框有新的图像依次移入。
两种类型放大像的具体动态识别特征如下:
1、正立放大像的动态识别特征有三种,分别为:
(1)微透镜防伪标识整体上下左右平移时,观察窗口中的放大图像相对于标识的移动方向呈现反向移动,即从标识移动后侧的边框移出,而从标识移动前侧的边框移入。
(2)微透镜防伪标识整体倾斜时,观察窗口中的放大图像从与人眼较近的边框移出,而从与人眼较远的边框移入。
(3)人眼上下左右偏移时,观察窗口中的放大图像从与人眼较近的边框移出,而从与人眼较远的边框移入。
2、倒立放大像的动态识别特征也有三种,分别为:
(1)微透镜防伪标识整体上下左右平移时,观察窗口中的放大图像相对于标识的移动方向呈现同向移动,即从标识移动前侧的边框移出,而从标识移动后侧的边框移入。
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