[实用新型]一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台无效
| 申请号： | 201020132829.4 | 申请日： | 2010-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN201665704U | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 沈志刚;俞晓正;蔡楚江;麻树林;邢玉山 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人： | 李有浩 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 磁控溅射 镀膜 超声波 样品 | ||
【权利要求书】：
1.一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台，其特征在于：该超声波样品台包括有样品容器、共振器和超声波发生器，样品容器置于共振器上方，共振器通过电缆与超声波发生器相连。
2.根据权利要求1所述的适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台，其特征在于：样品容器采用金属材料加工，其壁厚为0.2mm～1.0mm。
3.根据权利要求1所述的适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台，其特征在于：超声波发生器输出的超声波频率为20kHz～500kHz和输出功率为50W～2000W。
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