[实用新型]一种用于PVC电缆料的生产系统有效

专利信息
申请号: 201020118544.5 申请日: 2010-02-24
公开(公告)号: CN201604235U 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 沈治华 申请(专利权)人: 杭州高新绝缘材料有限公司
主分类号: B29B9/06 分类号: B29B9/06;B29B9/16;B29B7/00;B29B13/04;B29C47/68
代理公司: 杭州中平专利事务所有限公司 33202 代理人: 翟中平;蓝建中
地址: 311116 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 pvc 电缆 生产 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种在生产PVC电缆料的过程中既能够有效地排除其杂质和水份,又具有快速切粒、快速冷却的一种用于PVC电缆料的生产系统,属PVC电缆料生产系统和生产方法制造领域。

背景技术

1、封闭式造粒为二次挤出造粒,采用φ90(含φ90)以下挤出机二次挤出同心热切粒,由于整个加工过程均在密闭的机筒内进行,因此既无法排除原料中的少量水份,也无法将原料分解所产生的气体排除,并且生产效率低,制造成本高,如图2所示;φ90以上挤出机采用二次造粒,虽然生产能力较大,但无法采用同心热切粒,必须拉片后用水冷却进行平板切料,而拉片用水冷却不仅存在干燥不充分的质量隐患,而且浪费水资源,更重要的是同样无法排除原料中的少量水份,无法将原料分解所产生的气体排除,同时平板切粒噪音大、工作强度大,如图3所示。

2、开放式造粒,将粉料加至密炼机进行密炼、塑化,然后将料团加入开放式双辊炼塑机进行混炼塑化后拉片过水冷却进行平板切粒。此生产工艺虽然能在开放式双辊炼塑机上排除原材料中的少量水份,但因无法安装过滤装置而无法除去原料中的杂质,仍需过水冷却进行平板切粒,因此不可避免地存在如上述φ90(含φ90)以下挤出机采用二次挤出同心切粒和φ90以上挤出机采用二次造粒的缺陷,所图4所示。

实用新型内容

设计目的:避免背景技术中的不足之处,设计一种在生产PVC电缆料的过程中既能够有效地排除其杂质和水份,又具有快速切粒、快速冷却的一种用于PVC电缆料的生产系统及生产工艺。

设计方案:为了实现上述设计目的。本实用新型在背景技术的基础上,一是物料中杂质的过滤利用单螺杆挤出机法兰处安装过滤网;二是物料中水份及物料分解所产生的气体排除利用开放式双辊炼塑机;三是冷却方式和切粒方式采用三级冷却旋风仓冷却、同心切粒装置切粒,不仅极大地提高了冷却速度,而且解决过水冷却平板切粒而造成的质量隐患,避免了水资源的浪费,降低了噪音和劳动强度。

技术方案:用于PVC电缆料的生产系统,开放式双辊炼塑机进料口与单螺杆挤出机的挤出口配合,单螺杆挤出造粒机进料口与开放式双辊炼塑机的出口配合,一级旋风冷却装置的进料口与单螺杆挤出造粒机出料口配合,二级旋风冷却装置的进料口与一级旋风冷却装置的出料口配合,三级旋风冷却装置的进料口与二级旋风冷却装置的出料口配合,三级旋风冷却装置的出料口与振动筛选器配合。

本实用新型与背景技术相比,通过对封闭式造粒系统及开放式造粒系统的改进,取其二者的优点、抛其缺陷,使原料中的杂质得到有效的过滤、水份得到有效的排除,并且通过对其冷却方式及切粒方法的改进,既不通过水冷,又保证了物料的充分冷却,不仅节约了水资源,而且降低了生产噪音和劳动强度。

附图说明

图1是一种用于PVC电缆料生产系统的方框示意图。

图2是背景技术中φ90以下封闭式PVC电缆料生产系统方框示意图。

图3是背景技术中φ90以上封闭式PVC电缆料生产系统方框示意图。

图4是背景技术中开放式PVC电缆料生产系统的方框示意图。

具体实施方式

实施例1:参照附图1。一种用于PVC电缆料的生产系统,开放式双辊炼塑机进料口与单螺杆挤出机的挤出口配合,单螺杆挤出造粒机进料口与开放式双辊炼塑机的出口配合,一级旋风冷却装置的进料口与单螺杆挤出造粒机出料口配合,单螺杆挤出造粒机设有双腕喂料机和同心切粒装置,二级旋风冷却装置的进料口与一级旋风冷却装置的出料口配合,三级旋风冷却装置的进料口与二级旋风冷却装置的出料口配合,三级旋风冷却装置的出料口与振动筛选器配合。所述单螺杆挤出机出料口装有过滤装置。其生产工艺:(1)单螺杆挤出机出料口装有过滤装置且通过先行挤出、塑化,将原料中的杂质过滤排除;(2)采用开放式双辊炼塑机,将挤出机挤出的物料在开放式双辊炼塑机进一步塑化2-3分种,使物料中的少量水份和原料分解产生的气体挥发排尽;(3)采用单螺杆挤出造粒机、双腕喂料机、同心切粒装置进行造粒,然后进入旋风仓冷却、振动筛选即得PVC电缆料。所述的旋风仓为三级旋风冷却仓且呈串联连接。

需要理解到的是:上述实施例虽然对本实用新型的设计思路作了比较详细的文字描述,但是这些文字描述,只是对本实用新型设计思路的简单文字描述,而不是对本实用新型设计思路的限制,任何不超出本实用新型设计思路的组合、增加或修改,均落入本实用新型的保护范围内。

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