[实用新型]一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器无效
| 申请号: | 201020109723.2 | 申请日: | 2010-02-09 |
| 公开(公告)号: | CN201634761U | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
| 发明(设计)人: | 阎佐健 | 申请(专利权)人: | 沈阳慧宇真空技术有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/18 |
| 代理公司: | 沈阳世纪蓝海专利事务所 21232 | 代理人: | 刘东兴 |
| 地址: | 110042 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 金属 有机化学 沉积 设备 喷雾器 | ||
技术领域
本实用新型属于真空应用技术领域,特别是涉及一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器。
背景技术
在真空状态下制备半导体材料需要将不同反应气体分别送入反应室,由于反应气体的性质特殊,在送入反应室之前反应气体必须分层隔离且需要冷却,在将不同气体送入反应室后,又要求反应气体在衬底表面充分均匀混合,因而一般都采用喷雾器装置进行送气。现有技术中,如专利号为ZL20041017471.X公开的一种用于金属有机化学气相沉积的设备的双层气喷头,该双层气喷头包括有上层气腔和下层气腔,在下层气腔之下为冷却腔,其特点是下出气管内径大于上出气管外径,将上出气管置于下出气管中,下出气管置于冷却腔中。这种结构存在的技术问题是,由于上出气管置于下出气管之中,下出气管依靠冷却腔中的水直接冷却,而上出气管中的气体不直接与冷却腔解触,而是通过下出气管和下层气腔间接冷却,因而冷却效果不好。此外,由于下出气管置于冷却腔中,容易产生水腐蚀,影响产品使用寿命。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是,克服现有技术的不足之处,在保证两层气体送入反应室之前分层隔离的要求,又保证两层气体直接冷却的技术条件下,提供一种气室与水冷盒相分离的用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器。
本实用新型解决技术问题采用的技术方案包括气盒和水冷盒,所述气盒由气盒上盖、气盒隔板和气盒下盖组成,气盒上盖与气盒隔板之间为上气室,气盒隔板与气盒下盖之间为下气室,在气盒上盖上加工有通孔,并在其中安装与上气室连通的上进气管,在气盒上盖和气盒隔板对应位置上加工有通孔,并在其中安装与下气室连通的下进气管,在气盒隔板与气盒下盖对应位置上加工有通孔,并在其中安装上层气导管,在气盒下盖上加工有直接起下层气导管作用的下层气导气孔,所述上层气导管置于下层气导气孔中,在所述气盒下面安装有与气盒相接触的水冷盒,所述水冷盒由水冷盒上盖和水冷盒下盖组成,在水冷盒上加工有与气盒上的上层气导管和下层气导气孔相对应的起喷气孔作用的水冷导气管,在水冷盒上盖上连接有进水管和出水管。
在水冷盒外侧安装有气帘套筒,所述气帘套筒用螺钉安装在法兰盖上,在法兰盖上加工有螺纹孔,并在法兰盖上安装有气帘进气管。
本实用新型与现有技术相比的有益效果是:
1.由于上层气和下层气两层气体在送入反应室之前共同经过水冷盒直接冷却,保证了两层气体冷却效果;
2.由于采用气盒与水冷盒相分离的结构,结构简单,加工方便,一旦出现漏孔,容易进行修补,因而成品率高;也由于结构简单,可以制成大尺寸的喷雾头,提高了使用效率;
3、由于气盒与水冷盒相分离,在气盒下盖上加工有直接起下层气导管作用的导气孔,省略了下层气导管,减少了下层气导管焊点,在水冷盒使用过程中如果出现焊点或焊缝水蚀缺陷,也可以进行修补,提高了产品的使用寿命。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是图1的K向视图;
图3是图2的A-A剖视图;
图4是图2的B-B剖视图;
图5是图1的I部放大图。
图中:
1、气帘套筒,2、进水管,3、气盒上盖,4、气盒隔板,5、气盒下盖,6、气帘进气管,7、法兰盖,8、出水管,9、螺钉,10、上进气管,11、下进气管,12、水冷盒上盖,13、水冷盒下盖,14、水冷导气管,15、上层气导管,16、下层气导气孔。
具体实施方式
本实用新型采用的技术方案包括有气盒和水冷盒,所述气盒由气盒上盖3、气盒隔板4和气盒下盖5组成,气盒上盖3与气盒隔板4之间为上气室,气盒隔板4与气盒下盖5之间为下气室,在气盒上盖3上加工有通孔,并在其中安装与上气室连通的上进气管10,在气盒上盖3和气盒隔板4对应位置上加工有通孔,并在其中安装与下气室连通的下进气管11,在气盒隔板4与气盒下盖5对应位置上加工有通孔,并在其中安装上层气导管15,在气盒下盖5上加工有直接起下层气导管作用的下层气导气孔16,所述下层气导气孔16内径大于上层气导管15外径,上层气导管15置于下层气导气孔16中,在所述气盒下面安装有与气盒相接触的水冷盒,所述水冷盒由水冷盒上盖12和水冷盒下盖13组成,在水冷盒上加工有与气盒上的上层气导管15和下层气导气孔16相对应的起喷气孔作用的水冷导气管14,在水冷盒上盖12上连接有进水管2和出水管8。
在水冷盒外侧安装有气帘套筒1,所述气帘套筒1用螺钉9安装在法兰盖7上,在法兰盖7上加工有螺纹孔,并在法兰盖7上安装有气帘进气管6。
工作时,气帘用气通过气帘进气管6进入气帘套筒1内,经过与水冷盒的径向间隙在反应区形成一个充满气帘用气的圆筒状气帘,目的是把反应气体限制在反应区内。氢化物气体通过上进气管10进入上气室,金属源气体通过下进气管11进入下气室,两层气体经过气盒上的上层气导管15和下层气导气孔16以及水冷盒上的水冷导气管14喷向反应区。水冷盒屏蔽了反应区对气盒内两种气体的热影响。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





