[实用新型]光学结构改良无效
| 申请号： | 201020004002.5 | 申请日： | 2010-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN201652189U | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 李碧珠;戴郁芬 | 申请（专利权）人： | 李碧珠 |
| 主分类号： | F21V8/00 | 分类号： | F21V8/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人： | 周春发;艾晶 |
| 地址： | 中国台湾台北县新庄*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 结构 改良 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学结构改良，该光学结构至少一侧边设有复数微结构；其特征在于：
该侧边沿微结构至少一表面延伸有一凸出部。
2.如权利要求1所述光学结构改良，其特征在于，该凸出部由侧边沿微结构上表面延伸而成。
3.如权利要求2所述光学结构改良，其特征在于，该侧边至少包含有入光侧、一与入光侧相邻的底侧以及与底侧相对的出光侧，各微结构设于入光侧上，而凸出部则设于入光侧与出光侧相邻处。
4.如权利要求1所述光学结构改良，其特征在于，该凸出部由侧边沿微结构下表面延伸而成。
5.如权利要求4所述光学结构改良，其特征在于，该侧边至少包含有入光侧、一与入光侧相邻的底侧以及与底侧相对的出光侧，各微结构设于入光侧上，而凸出部则设于入光侧与底侧相邻处。
6.如权利要求1所述光学结构改良，其特征在于，该凸出部由侧边沿微结构上表面及下表面延伸而成。
7.如权利要求4所述光学结构改良，其特征在于，该侧边至少包含有入光侧、一与入光侧相邻的底侧以及与底侧相对的出光侧，各微结构设于入光侧上，而凸出部则设于入光侧与出光侧相邻处以及入光侧与底侧相邻处。
8.如权利要求1、2、4或6所述光学结构改良，其特征在于，该凸出部的长度大于微结构的高度。
9.如权利要求1、2、4或6所述光学结构改良，其特征在于，该凸出部的长度等于微结构的高度。
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