[发明专利]透镜阵列

权利要求书

1.一种透镜阵列，包括：

衬底，多个通孔形成在衬底中；和

多个透镜，所述多个透镜通过掩埋所述多个通孔而设置在衬底中；

其中，所述通孔在深度方向上的一部分在截面形状和开口面积中的至少一个方面不同于所述通孔在深度方向上的另一部分，所述截面形状和开口面积是平行于衬底的表面截取的。

2.如权利要求1所述的透镜阵列，其中：

掩埋在所述通孔中的透镜没有延伸到衬底的表面上。

3.如权利要求1或2所述的透镜阵列，其中：

通孔的开口面积从衬底的一个表面朝向另一个表面逐渐改变。

4.如权利要求1或2所述的透镜阵列，其中：

凸部或者凹部设置至通孔的内壁。

5.如权利要求1或2所述的透镜阵列，其中：

通过层压其中以相同的排列分别设置多个孔的多个衬底构件，以使各个孔位相互对齐而构成衬底，并且

形成在所述多个衬底构件中的部分衬底构件上的孔形和开口面积中的至少一个与形成在其余衬底构件上的孔形和开口面积中的至少一个不同。

6.如权利要求1或2所述的透镜阵列，其中：

所述衬底具有光屏蔽性能。

7.如权利要求1或2所述的透镜阵列，其中：

所述透镜在光轴方向上的至少一个端面定位在通孔中。

8.一种透镜阵列，包括：

衬底，多个通孔形成在衬底中；和

多个透镜，所述多个透镜通过掩埋所述多个通孔而设置在衬底中；

其中，所述通孔的内壁的至少一部分被加工成粗糙表面。

9.如权利要求8所述的透镜阵列，其中：

所述通孔的所述内壁的整个表面被加工成粗糙表面。

10.如权利要求8或9所述的透镜阵列，其中：

按照十点平均粗糙度，所述通孔的所述内壁的表面粗糙度设为大于4μm或更大但小于25μm或更小。

11.如权利要求8或9所述的透镜阵列，其中：

每个透镜没有延伸到所述衬底的表面上。

12.如权利要求8或9所述的透镜阵列，其中：

通过层压其中以相同的排列分别设置多个孔的多个衬底构件，以使各个孔位相互对齐而构成衬底，并且

形成在所述多个衬底构件中的至少一个衬底构件中的所述孔的内壁分别被加工成粗糙表面。

13.如权利要求8或9所述的透镜阵列，其中：

所述衬底具有光屏蔽性能。

14.一种透镜阵列层压结构，其中，包含至少一个根据权利要求1-13任一项所述的透镜阵列的多个透镜阵列被叠加。

15.一种器件阵列层压结构，包括：

至少一个根据权利要求1-13任一项所述的透镜阵列；和

传感器阵列，其中多个固体成像器件以与所述透镜阵列的所述透镜相同的队列排列在晶片上；

其中所述透镜阵列叠加在所述传感器阵列上。

16.一种透镜模块，所述透镜模块从根据权利要求1-13任一项所述的透镜阵列中分离出来，以包含透镜中的一个。

17.一种透镜阵列层压结构，所述透镜阵列层压结构从根据权利要求14所述的透镜阵列层压结构中分离出来，以包含在叠加层方向上对齐的透镜。

18.一种图像拾取单元，所述图像拾取单元从根据权利要求15所述的器件阵列层压结构中分离出来，以包含在叠加层方向上对齐的图像拾取单元和透镜。