[发明专利]一种背面对准装置及方法

权利要求书

1.一种背面对准装置，用于确定基底与工件台的相对位置关系，包括：

辐射源，用于发出红外线；

工件台装置，用于支撑基底并移动基底运动；

成像装置，用于探测对准标记并计算对准标记位置；

基准版装置，用于建立成像装置与工件台装置的位置坐标关系；

其特征在于，所述辐射源及所述成像系统能实现一套设备对不同对准标记的照明和对准；

所述对准标记包括基准版标记及背面对准标记。

2.如权利要求1所述的背面对准装置，其特征在于，所述工件台装置包括至少三个通光孔，用于通过红外线。

3.如权利要求1所述的背面对准装置，其特征在于，所述背面对准装置还包括照明装置。

4.如权利要求3所述的背面对准装置，其特征在于，所述照明装置位于所述工件台装置的通光口的正上方，包括光纤和照明镜组；或位于所述工件台装置的通光口的正下方，包括光纤、照明镜组和照明反射镜。

5.如权利要求1所述的背面对准装置，其特征在于，所述工件台装置包括工件台和位于工件台之下的基座，所述工件台至少实现3个自由度的移动。

6.如权利要求5所述的背面对准装置，其特征在于，所述工件台装置还包括硅片吸盘，所述硅片吸盘位于工件台之上，所述硅片吸盘由玻璃或对红外光具有较高透过率的材料构成。

7.如权利要求2所述的背面对准装置，其特征在于，所述三个通光孔中包括一个基座通光孔和两个工件台通光口。

8.如权利要求1所述的背面对准装置，其特征在于，所述成像装置位于所述工件台装置的通光口的正上方，包括成像镜组、成像探测器和图像处理系统，或位于所述工件台装置的通光口的正下方，包括成像镜组、照明反射镜、成像探测器和图像处理系统。

9.如权利要求8所述的背面对准装置，其特征在于，所述成像探测器是CCD探测器、CMOS探测器或InGaAs探测器。

10.如权利要求1所述的背面对准装置，其特征在于，所述基准版装置包括基准版、基准版对准标记及基准版支架。

11.如权利要求10所述的背面对准装置，其特征在于，所述基准版对准标记位于所述基准版的下表面，所述基准版固定于所述基准版支架上，所述基准版对准标记与背面对准标记位于同一水平面上。

12.如权利要求10所述的背面对准装置，其特征在于，所述基准版支架由玻璃或对红外光具有较高透过率的材料构成。

13.如权利要求6所述的背面对准装置，其特征在于，所述基准版装置位于所述工件台或所述硅片吸盘之上。

14.如权利要求7所述的背面对准装置，其特征在于，所述工件台通光孔的位置、数量及大小由对准精度以及单个芯片尺寸大小决定。

15.一种背面对准方法，用于确定基底与工件台的相对位置关系，其特征在于，包括：

步骤一：移动基准版标记至背面标记成像装置的成像视场范围内，建立背面对准标记成像装置与工件台的位置坐标关系；

步骤二：移动背面对准标记至背面标记成像装置的成像视场范围内，建立背面对准标记与背面标记成像装置的位置坐标关系；

步骤三：根据上述两个位置坐标关系获得硅片与工件台之间的位置关系。

16.如权利要求15所述的背面对准方法，其特征在于，所述步骤一包括：

1.1：移动工件台到期望位置，使基准版标记处于背面标记成像装置的成像视场范围内；

1.2：所述背面标记成像装置包括成像探测器和图像处理系统，利用图像处理系统判断成像探测器件中是否有基准版标记；若基准版标记位于成像探测器件中，则利用图像处理系统计算基准版标记在成像探测器件靶面上的位置，同时记录运动台在水平向位置；

1.3：若基准版标记不位于成像探测器件中，则工件台按照设置的位移量步进到下一个搜索位置，若搜索超出设置的搜索范围，则终止搜索；若在搜索范围内找到基准版标记，则重复步骤1.3。