[发明专利]被动式辐射成像设备和相应方法无效
| 申请号: | 201010610110.1 | 申请日: | 2010-12-22 |
| 公开(公告)号: | CN102103018A | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
| 发明(设计)人: | 卓那·诺格瑞亚-尼恩 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
| 主分类号: | G01J5/10 | 分类号: | G01J5/10;G01J5/02 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 李晓冬 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 被动式 辐射 成像 设备 相应 方法 | ||
1.一种用于扫描场景(24)的被动式辐射成像设备(10),所述设备包括:
辐射仪(12),用于探测从所述场景(24)的斑点(22)在预定频谱范围中放射的辐射,并用于从探测到的辐射生成辐射信号,
斑点移动装置(14),用于实现从其探测所述辐射的所述斑点(22)到不同位置的移动,
控制装置(16),用于控制所述斑点移动装置(14)以实现所述斑点(22)在随机时间间隔后从一个位置到另一位置的移动,以及
处理装置(18),用于处理从在所述不同位置处的所述斑点(22)探测到的辐射信号,并用于通过应用压缩传感来重构所述场景(24)的图像(30)。
2.如权利要求1所述的被动式辐射成像设备,其中,所述处理装置(18)适用于通过对所述辐射信号应用l1范数极小化算法来重构所述图像。
3.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述斑点移动装置(14)包括机械斑点移动装置(14a),所述机械斑点移动装置(14a)用于实现所述辐射仪(12a)相对于所述场景(24)的相对运动以实现所述斑点(22)的移动,具体地,所述机械斑点移动装置(14a)用于机械地移动辐射仪(12a)以实现所述斑点(22)的移动。
4.如权利要求1或2所述的被动式辐射成像设备,其中,所述斑点移动装置(14)包括电子斑点移动装置(14b),所述电子斑点移动装置(14b)用于电子地移动所述辐射仪(12b)的灵敏度分布以实现所述斑点(22)的移动,具体地,所述电子斑点移动装置(14b)是电子波束定位装置或电子波束成形装置。
5.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述斑点移动装置(14)适用于实现所述斑点(22)在所述场景(24)上的连续移动,其中所述连续移动的速度是随机变化的。
6.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述斑点移动装置(14)适用于实现所述斑点(22)的移动以使得所述场景(24)被完全扫描,具体地,所述斑点(22)在所述场景(24)上沿着连续轨线被顺序地移动。
7.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述场景(24)的辐射信号在已知域中具有稀疏表示,具体地,所述已知域是总变差域、傅里叶域、小波域和曲波域。
8.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述控制装置(16)适用于从预定时间间隔或从可选时间间隔表中选择所述斑点(22)在一个位置处停留的随机时间间隔。
9.如权利要求1至7中任一项所述的被动式辐射成像设备,其中,所述控制装置(16)适用于通过使用预定函数或分布来确定所述斑点(22)在一个位置处停留的时间间隔,具体地,所述分布是均匀伯努利或高斯分布。
10.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述控制装置(16)适用于选择平均时间间隔,使得在所述场景(24)具有较高信息分布的位置处的平均时间间隔比在所述场景(24)的信息分布较低的位置处的平均时间间隔大。
11.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述辐射仪(12a,12b)包括用于探测从表示单个像素的斑点(22)放射的辐射的单个辐射仪单元。
12.如权利要求1至10中任一项所述的被动式辐射成像设备,其中,所述辐射仪(12c)包括用于探测从表示像素行或像素阵列的斑点(22)放射的辐射的辐射仪单元行或辐射仪单元阵列。
13.如之前任一权利要求所述的被动式辐射成像设备,其中,所述辐射仪适用于探测在毫米波长范围内放射的辐射,具体地,在从0.1mm到100mm的波长范围内,优选地从1mm到10mm的波长范围内放射的辐射。
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