[发明专利]一种臭氧接触池及臭氧接触方法

权利要求书

1.一种臭氧接触池，其特征在于：包括按进水顺序布置并依次连通的进水廊道（1）、曝气廊道（2）、配水区（3）、反应区（4）和出水槽（5），所述进水廊道（1）的顶部为出水端，所述曝气廊道（2）的顶部为入水端，所述进水廊道（1）的顶部与所述曝气廊道（2）的顶部相连通，所述曝气廊道（2）的底部设有曝气头（21），所述曝气廊道（21）的顶部设有第一排气口（22），所述曝气廊道（2）的底部与所述配水区（3）的入水端通过提高液体流速的狭窄通道（6）连通，所述配水区（3）的顶部为出水端，所述反应区（4）的底部为入水端，所述配水区（3）的顶部与所述反应区（4）的底部相连通，所述配水区（3）的顶部与所述反应区（4）的底部之间设有穿孔板（41），所述穿孔板（41）设有第二连通孔，所述反应区（4）的顶部与所述出水槽（5）相连通，所述反应区（4）顶部覆盖有盖板（44），所述盖板（44）设有第二排气口（43），所述第二排气口（43）通过管路连接有臭氧尾气破坏装置。

2.根据权利要求1所述的臭氧接触池，其特征在于：所述反应区（4）的顶部设有三角出水堰（42），所述三角出水堰（42）与所述出水槽（5）相连通。

3.根据权利要求2所述的臭氧接触池，其特征在于：相邻二个所述三角出水堰（42）的中心线之间的距离为L，所述反应区（4）与所述配水区（3）的总高度为H，则L/H<0.2。

4.根据权利要求3所述的臭氧接触池，其特征在于：所述反应区（4）与所述配水区（3）的总高度H为5～7米。

5.根据权利要求4所述的臭氧接触池，其特征在于：所述配水区（3）的高度为h，h为0.5～1.0米，所述狭窄通道（6）的高度为a，a为0.10～0.20米。

6.根据权利要求1所述的臭氧接触池，其特征在于：所述配水区（3）内设有与水流动方向相垂直的穿孔墙（31），所述穿孔墙（31）设有与水流动方向相平行的第一连通孔（311）。

7.根据权利要求6所述的臭氧接触池，其特征在于：所述穿孔墙（31）至少有二个并间隔均匀分布，所述第一连通孔（311）均匀分布在所述穿孔墙（31）上。

8.根据权利要求1所述的臭氧接触池，其特征在于：所述曝气头（21）的曝气方向与所述曝气廊道（2）的水流方向相反，所述进水廊道（1）的水流方向与所述曝气廊道（2）的水流方向相反。

9.根据权利要求1所述的臭氧接触池，其特征在于：所述穿孔板（41）的孔隙率为 0.05～0.20，所述第二连通孔的孔径为3～5毫米，所述第二连通孔均匀分布在所述穿孔板（41）上。

10.一种臭氧接触方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、通过进水廊道（1）将水导入曝气廊道（2）进行逆向曝气；

B、将所述曝气廊道（2）内的水通过可提高液体流速的狭窄通道（6）导入配水区（3），在狭窄通道（6）和配水区内进行混合；

C、将所述配水区（3）内的水通过穿孔板（41）向上导入反应区（4）进行反应消毒；

D、所述反应区（4）内的水通过出水槽（5）排出。