[发明专利]一种用于抛光含钛基材的抛光浆料有效
| 申请号： | 201010609152.3 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102533122A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张建;荆建芬;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区龙*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 基材 浆料 | ||
1.一种用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述抛光浆料包括一种或多种氨基酸、去离子水和研磨颗粒；所述抛光浆料用于抛光含钛的基材。
2.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述研磨颗粒包括二氧化硅、氧化铝、掺杂铝或覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛、高分子研磨颗粒中的一种或多种的组合。
3.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述氨基酸为丝氨酸、甘氨酸、丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、赖氨酸、精氨酸、组氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、苏氨酸、脯氨酸、胱氨酸、半胱氨酸、天冬酰胺，或谷氨酰胺中的一种或几种混合。
4.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述氨基酸的含量为0.01~10wt%。
5.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述氨基酸的含量为0.01~5wt%。
6.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述研磨颗粒的百分含量为0.1~20wt%。
7.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述研磨颗粒的直径为20~150nm。
8.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述抛光浆料的pH值为4~11。
9.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述抛光液用于抛光含钛金属或氮化钛的基材。
10.根据权利要求1所述的用于抛光含钛基材的抛光浆料，其特征在于，所述抛光浆料还包括粘度调节剂或消泡剂。
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