[发明专利]平台装置与曝光装置,以及元件制造方法

说明书

本申请是原国家申请号为200710163828.9，国家申请日为2004年1月26日，原发明名称为“平台装置与曝光装置，以及元件制造方法”的分案申请。 

技术领域

本发明涉及一种平台装置与曝光装置，以及元件制造方法，特别是涉及一种具有平板与，沿该平板移动的滑块(slider)的平台装置，具有该平台装置的曝光装置，以及使用上述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

近年来，在制造半导体元件、液晶显示元件等的微影(lithography)工序，是多使用使光掩膜(mask)或光栅(reticle)(以下总称为“光栅”)与晶圆(wafer)或玻璃基板等的感光物体(以下总称为“晶圆”)沿所定扫描方向(scan方向)一面加以同步移动，一面使光栅的图案(pattern)经由投影光学系统转印于晶圆上的步进扫描(step.and.scan)方式的扫描型曝光装置(所谓扫描式步进机Scanning.Stepper)等，此种扫描型曝光装置比起步进机(stepper)等的静止曝光型的装置时，可使大区域(field)以较小的投影光学系统加以曝光。因此，投影光学系统的制造变成容易的同时，由于以大区域曝光的照射数减小可以期待高生产率(throughput)，对于投影光学系统使光栅及基板藉由相对扫描时具有平均化效果，具有可期待变形(distortion)或焦点深度的提升等的优点(merit)。

然而，以扫描型曝光装置时，除了在晶圆侧之外，在光栅侧也必要有使驱动光栅的驱动装置。在最近的扫描型曝光装置，于光栅侧的驱动装置，是使用具有光栅粗调平台(stage)与光栅微调平台的粗微调构造的光栅平台(reticle stage)装置。其中，光栅粗调平台，是在光栅平板上由以空气轴承(airbearing)等加以浮动支持、配置于与扫描方向直交的非扫描方向的两侧的一对线性马达(linear motor)，在扫描方向以所定行程范围加以驱动。光栅微调平台，是对于该光栅粗调平台，在扫描方向、非扫描方向及左右摇动(yawing)方向以音圈马达(voicecoil motor)等加以微少驱动。

又，为极力抑制因应光栅平台的驱动在线性马达的定子(stator)所产生的反力不要成为光栅平板的震动要因或姿势变化的要因，受上述反力，按照动量恒守定律(law of conservation of momentum)，例如，也有在光栅平台的 扫描方向所设的线性马达的定子[线性导板(linear guide)]设置具有移动于与光栅平台相反方向的平衡质量(counter mass)(锤构件)的平衡质量机构的光栅平台装置。

可是，在习知的扫描型曝光装置所采用的光栅平台装置，以下的种种应加以改善的问题点存在。

a.由于在设有微调平台驱动用的马达定子的定子台架(carrier)与平板之间有侧导板(side guide)，光栅微调平台(光栅)的非扫描方向的位置决定时的反力与左右偏摇力距(yawing moment)，以及在粗调平台的驱动时所产生的力距，以经由侧导板传达于平板，以此成为平板的震动要因，结果使光栅的位置控制精度(包含位置决定精度)恶化。

b.在光栅微动平台及光栅粗动平台是连接电流供给用的配线或真空夹盘(vacuum chuck)所用的真空排气用及对空气轴承的供给加压空气用的配管等，由于此等平台是以拖拉配线、配管的状态加以移动，此等配线、配管的张力，结果成为使光栅的位置控制精度(包含位置决定精度)恶化的要因。

c.由光栅微调平台周边的机械震动、热要因的平台弯曲成为光栅微调平台的位置检测误差的要因。对于其一例，如图12A所示，以经由设在光栅微调平台RST的移动镜169使光栅微调平台RST(光栅R)的位置以具有测长轴LX的干涉仪加以测定的场合加以考虑。在此种场合，在光栅平台RST产生如图12B所示的变形时，在由干涉仪所检测的位置资讯成为产生ΔM的检测误差(一种阿贝(abbe)误差)。尚且，在图12A、12B符号CR，是表示光栅微调平台RST的中立面(弯曲中立面)。

d.更且，光栅微动平台的变形成为移动镜的变形(弯曲)要因，导致光栅微动平台的位置检测精度的降低，进而位置控制精度的降低。