[发明专利]可调纳米光栅及纳米光栅加速度计及其加工方法

权利要求书

1.一种可调纳米光栅，其特征在于，包括可动子光栅和固定子光栅，所述可动子光栅和固定子光栅分别包括多个单光栅；

所述可动子光栅的多个单光栅沿着水平轴均匀间隔布置，并固定在梁上；

所述固定子光栅的多个单光栅沿着水平轴均匀间隔布置，并固定在基座上；

所述可动子光栅和固定子光栅的多个单光栅上下交叉排列，构成多个隙缝；

所述梁为活动梁，所述活动梁连接有质量块。

2.一种纳米光栅加速度计，其特征在于，包括激光光源、加速度计芯片、光电探测装置，所述加速度计芯片包括权利要求1所述的可调纳米光栅；

所述激光光源发出的光穿过所述可调纳米光栅的多个单光栅构成的隙缝后，被所述光电探测装置接收。

3.根据权利要求2所述的纳米光栅加速度计，其特征在于，所述激光光源、加速度计芯片和光电探测装置分别有两个。

4.根据权利要求3所述的纳米光栅加速度计，其特征在于，所述单光栅的宽度和厚度小于或等于所述激光光源发出的光的波长。

5.根据权利要求2、3或4所述的纳米光栅加速度计，其特征在于，所述光电探测装置包括光电探测器，所述光电探测器连接有信号检测电路。

6.一种权利要求1所述的可调纳米光栅或权利要求2所述的纳米光栅加速度计的加工方法，其特征在于，包括步骤：

首先，在多晶硅表面淀积一层十几纳米厚的薄金层；

其次，将待加工的物放入加速电压为30KV的聚焦离子束/扫描电镜双束系统中，在特定的放大倍数下，将离子束聚焦成5-7nm束斑；

之后，将束斑移动至待加工物表面需制备纳米光栅的位置进行加工，得到纳米光栅结构。