[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201010607432.0 | 申请日： | 2010-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN102534526A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/02;B32B9/04;B32B15/00 |
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| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种镀膜件，其包括基材、形成于基材表面的过渡层及形成于过渡层表面的硬质层，其特征在于：该过渡层为镍-铬合金层，该硬质层中含有碳氮化铬、氮化碳及金属镍。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基材为含有镍的不锈钢。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述过渡层以磁控溅射的方式形成，该过渡层的厚度为0.5～0.8μm。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述硬质层以磁控溅射的方式形成，该硬质层的厚度为1.0～1.8μm。
5.一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：
提供一基材；
在该基材表面形成过渡层，该过渡层为镍-铬合金层；
在该过渡层的表面形成硬质层，该硬质层中含有碳氮化铬、氮化碳及金属镍。
6.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述形成过渡层的步骤采用如下方式实现：采用磁控溅射法，使用镍-铬合金靶，其中镍-铬合金靶中镍的质量百分含量为20～50％，设定镍-铬合金靶的功率为10～12kw，以氩气为工作气体，氩气流量为300～500sccm，基材偏压为-100～-300V，加热使基材的温度为100～200℃，镀膜时间为20～40min。
7.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述形成硬质层的步骤采用如下方式实现：采用磁控溅射法，使用镍-铬合金靶和石墨靶，该镍-铬合金靶中镍的质量百分含量为20～50％，同时开启并设定镍-铬合金靶以及石墨靶的功率分别为10～12kw和9～11kw，以乙炔和氨气为反应气体，乙炔流量为40～100sccm，氨气流量为40～100sccm，以氩气为工作气体，氩气流量为400～500sccm，基材偏压为-100～-300V，基材的温度为100～200℃，镀膜时间为80～140min。
8.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述基材为含有镍的不锈钢。
9.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述过渡层的厚度为0.5～0.8μm。
10.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述硬质层的厚度为1.0～1.8μm。
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