[发明专利]硅料清洗剂及硅料清洗的方法

权利要求书

1.一种硅料清洗剂，其特征在于：由以下组分按质量份组成：脂肪醇聚氧乙烯醚为5-25；烷基酚聚氧乙烯醚为3-15；烷基醇酰胺为2-8；乙二醇烷基醚为0.5-7；螯合剂为0.1-5；含氯酸为5-10；H₂O₂为0.5-5；余量为去离子水，总份数为100。

2.根据权利要求1所述的硅料清洗剂，其特征在于：所述的SEH-1中的螯合剂选用乙二胺四乙酸或其钠盐、柠檬酸或其钠盐、羟基亚乙基二膦酸中的一种。

3. 一种硅料清洗剂，其特征在于：由以下组分按质量份组成：椰子油烷基酰胺磷酸酯为4-15；三乙醇胺油酸皂为3-15；三乙醇胺为1-5；氨基三乙酸为0.1-5；氢氧化钾为1-5；余量为去离子水，总份数为100。

4. 一种硅料清洗剂，其特征在于：由以下组分按质量份组成：醋酸为5-10；柠檬酸为0.5-10；山梨醇为0.1-5；余量为去离子水，总份数为100。

5. 一种硅料清洗方法，其特征在于：具体按以下步骤进行，

步骤1、分别配制SEH-1、SEH-2、SEH-3三种清洗剂，

所述的清洗剂SEH-1由以下组分按质量份组成：脂肪醇聚氧乙烯醚为5-25；烷基酚聚氧乙烯醚为3-15；烷基醇酰胺为2-8；乙二醇烷基醚为0.5-7；螯合剂为0.1-5；含氯酸为5-10；H₂O₂为0.5-5；余量为去离子水，总份数为100，

所述的清洗剂SEH-2由以下组分按质量份组成：椰子油烷基酰胺磷酸酯为4-15；三乙醇胺油酸皂为3-15；三乙醇胺为1-5；氨基三乙酸为0.1-5；氢氧化钾为1-5；余量为去离子水，总份数为100，

所述的清洗剂SEH-3由以下组分按质量份组成：醋酸为5-10；柠檬酸为0.5-10；山梨醇为0.1-5；余量为去离子水，总份数为100；

步骤2、将硅料投入清洗剂SEH-1中浸泡，常温条件下浸泡30-60分钟，捞取浸泡后的硅料，用纯水冲洗；

步骤3、用水对步骤1配制出的清洗剂SEH-2进行稀释，得到清洗剂SEH-2浓度为1%-10%的稀释液，将经步骤1处理后的硅料投入清洗剂SEH-2稀释液中进行超声清洗，保持温度40℃-75℃，清洗时间5-15分钟，捞取硅料；

步骤4、用水对步骤1配制出的清洗剂SEH-3进行稀释，得到清洗剂SEH-3浓度为1%-8%的稀释液，将步骤3得到的硅料，投放于清洗剂SEH-3稀释液中进行超声清洗，完成中和过程，保持温度40℃-75℃，清洗时间5-15分钟；

步骤5、将上步中和清洗后的硅料放于纯水中进行超声清洗，保持温度40℃-75℃，清洗时间10-30分钟，纯水溢流，硅料转动搅拌；硅料表面渗出容留的杂质和离子，经纯水浸泡冲洗后，测当前纯水浸泡液的PH及电阻率，当前纯水浸泡液的电阻率≥8 MΩ·cm，且PH=7.0时，即为冲洗合格，否则增加冲洗次数；

步骤6、捞取硅料，烘干后即成。

6. 根据权利要求5所述的硅料清洗方法，其特征在于：所述的SEH-1中的螯合剂选用乙二胺四乙酸或其钠盐、柠檬酸或其钠盐、羟基亚乙基二膦酸中的一种。