[发明专利]用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法无效

专利信息
申请号: 201010600842.2 申请日: 2010-12-20
公开(公告)号: CN102566289A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 宋平;马明英 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01J1/42
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 测试 光刻 设备 照明 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法,包括:

步骤一、上载包含测试孔的测试掩模,所述照明系统发出参考光照射所述掩模;

步骤二、所述光电探测器探测所述参考光强,当探测到所述掩模上的测试孔内的一点的参考光的光强大于等于第一预定值时,以该点作为所述小孔边界扫描的起始点;

步骤三、所述光电探测器从所述起始点开始分别探测所述测试孔的边界,当探测到的所述参考光强为第二预定值时以所述参考光强为所述第二预定值的点作为边界点;

步骤四、根据所述边界点计算所述测试孔的中心点;以及

步骤五、根据所述测试孔的中心点,所述光电探测器对所述测试孔进行步进光强采样以完成光瞳测量。

2.如权利要求1所述的测试照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述测试掩模上包括至少一个测试孔。

3.如权利要求1所述的测试光刻设备的照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述测试孔的形状是圆形、三角形或任意多边形。

4.如权利要求1所述的测试光刻设备的照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述测试孔的形状是方形。

5.如权利要求4所述的测试光刻设备的照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述步骤四中的计算公式如下: 其中(Xcenter,Ycenter)是测试孔的中心点坐标,(X3,Y3)是上边界的扫描位置,(X1,Y1)是左边界的扫描位置,(X4,Y4是)下边界的扫描位置,(X2,Y2)是右边界的扫描位置。

6.如权利要求4所述的测试光刻设备的照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述步骤三中光电探测器分别探测所述测试孔的边界的路径为:以边界扫描的起始位置点为原点,先扫描上边界,返回起始位置点后扫描左边界,返回起始位置点后扫描下边界,返回起始位置点后扫描右边界。

7.如权利要求1所述的侧始光刻设备的照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述第一预定值为所述参考光强的60%。

8.如权利要求1所述的侧始光刻设备的照明系统光瞳的方法,其特征在于,所述第二预定值为所述参考光强的50%。 

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