[发明专利]测量系统、光刻设备和测量方法

权利要求书

1.一种编码器类型的测量系统，所述测量系统被配置用于测量可移动对象的位置依赖信号，所述测量系统包括：

至少一个传感器，可安装在静止的框架上；

传感器目标对象，可安装在可移动对象上；

挠性安装装置，所述挠性安装装置被配置用于将所述传感器目标对象安装到所述可移动对象上；以及

补偿装置，所述补偿装置被配置用于至少部分地补偿所述传感器目标对象相对于所述可移动对象的运动、或变形、或运动和变形。

2.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述补偿装置包括阻尼装置，所述阻尼装置被配置用于衰减所述传感器目标对象的运动、或者变形、或者运动和变形。

3.根据权利要求2所述的测量系统，其中所述阻尼装置是无源阻尼装置或有源阻尼装置。

4.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述补偿装置包括反馈位置控制系统。

5.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述补偿装置包括：

阻尼装置，所述阻尼装置被配置用于在所述传感器目标对象的谐振频率范围内进行补偿；和

位置控制系统，所述位置控制系统被配置用于在低于所述谐振频率范围的频率范围内进行补偿。

6.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述补偿装置包括固定装置，所述固定装置被配置用于在所述可移动对象的高精度运动过程中固定所述传感器目标对象，以便以至少一个自由度相对于所述可移动对象固定所述传感器目标对象。

7.根据权利要求6所述的测量系统，其中所述固定装置能够以六个自由度固定所述传感器目标对象。

8.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述安装装置包括：

多个挠性元件，配置成将所述传感器目标对象耦合至所述可移动对象，至少一个所述挠性元件在至少一个自由度上是挠性的。

9.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述传感器目标对象包括光栅或栅格。

10.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述可移动对象是光刻设备的衬底台或掩模版台。

11.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述位置依赖信号是所述可移动对象的位置、速度或加速度信号。

12.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

图案形成装置支撑件，构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底支撑件，构造用于保持衬底；以及

投影系统，配置用于将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及

测量系统，所述测量系统用于测量所述支撑件中的一个支撑件相对于静止的框架的位置依赖信号，所述测量系统包括：

至少一个传感器，可安装在静止的框架上；

传感器目标对象，可安装在所述支撑件中的一个支撑件上；

挠性安装装置，所述挠性安装装置配置用于将所述传感器目标对象安装到所述支撑件中的一个支撑件上；以及

补偿装置，所述补偿装置配置用于至少部分地补偿所述传感器目标对象相对于所述支撑件中的一个支撑件的运动、或者变形、或所述运动和变形。

13.一种编码器类型的测量系统，配置用于测量可移动对象的位置依赖信号，所述测量系统包括：

至少一个传感器，可安装在静止的框架上；

传感器目标对象，可安装在所述可移动对象上；

挠性安装装置，所述挠性安装装置被配置用于将所述至少一个传感器安装到所述静止的框架上；以及

补偿装置，所述补偿装置被配置用于至少部分地补偿所述至少一个传感器相对于所述静止的框架的运动、或变形、或运动和变形。

14.根据权利要求13所述的测量系统，其中所述补偿装置包括：

阻尼装置，配置用于衰减所述至少一个传感器的运动、或者变形、或者运动和变形。

15.根据权利要求14所述的测量系统，其中所述阻尼装置是无源阻尼装置或有源阻尼装置。

16.根据权利要求13所述的测量系统，其中所述补偿装置包括反馈位置控制系统。