[发明专利]壳体及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有淡蓝色外观的壳体及其制作方法。

背景技术

为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰性涂层。相比这些传统工艺，PVD镀膜技术更加绿色环保，且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰性色彩层。

然而现有技术中，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限，目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、白色等色系，能够稳定生产的颜色更是少之又少。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种通过PVD镀膜形成淡蓝色外观的壳体。

另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。

一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层包括依次形成于基体表面的氮氧钛层和氮氧铬层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于60至100之间，a^*坐标介于-10至-8之间，b^*坐标介于-15至-13之间。

一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

于该基体的表面磁控溅射一色彩层，该色彩层包括依次形成于基体表面的氮氧钛层和氮氧铬层，以钛靶为靶材，以氧气和氮气为反应气体，控制氧气的初始流量为20sccm，氮气的初始流量为15sccm，其氧原子和氮原子由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增加，当溅射时间到40min时，氧气流量梯度增加到50sccm，氮气流量梯度增加到35sccm，于基体上形成氮氧钛层；

关闭钛靶，开启铬靶，继续通入氧气和氮气，控制氧气流量50sccm和氮气流量35sccm，于氮氧钛层上形成氮氧铬层，继续溅射20min；所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于60至100之间，a^*坐标介于-10至-8之间，b^*坐标介于-15至-13之间。

相较于现有技术，所述壳体的制备方法在形成色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和溅射时间的控制，从而达到使色彩层呈现淡蓝色的目的，以该方法所制得的壳体呈现出具有吸引力的淡蓝色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图。

图2是图1壳体的制作过程中所用镀膜机结构示意图。

主要元件符号说明

壳体        10

基体        11

色彩层      13

氮氧钛层    131

氮氧铬层    133

镀膜机      100

镀膜室      20

真空泵      30

轨迹        21

第一靶材    22

第二靶材    23

气源        24

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括基体11及形成于基体11表面的色彩层13。该色彩层13呈现淡蓝色。

基体11的材质可为不锈钢、玻璃、陶瓷或塑料，优选为不锈钢。

色彩层13可以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该色彩层13包括依次形成于基体表面的氮氧钛层131和氮氧铬层133，该色彩层13的厚度为0.3～1.0μm。该色彩层13肉眼直观呈现淡蓝色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于60至100之间，a^*坐标介于-10至-8之间，b^*坐标介于-15至-13之间。

所述氮氧钛层中Ti、O及N中各元素的质量百分含量分别为40％～70％，25％～55％及5％～10％；所述氮氧铬层中Cr、O及N中各元素质量百分含量分别为40％～70％，25％～55％及5％～10％。

所述色彩层13呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于60至100之间，a^*坐标介于-10至-8之间，b^*坐标介于-15至-13之间。所述色彩层13的厚度可为0.3～1μm。

本发明壳体10的制作方法包括以下步骤：