[发明专利]一种大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法

权利要求书

1.一种大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：选取冶金硅料，在反应气氛中通过高温处理使金属杂质扩散到硅料颗粒的表面或晶界处，然后再通过酸浸将扩散到硅料颗粒表面或晶界处的金属杂质除去即可。

2.根据权利要求1所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是包含以下步骤：

(1)选取冶金硅料进行预处理；

(2)调节反应气氛和压力，将预处理后的冶金硅料采用高温处理使金属杂质扩散到硅料颗粒的表面或晶界处；

(3)采用酸浸将扩散到硅料颗粒表面或晶界处的金属杂质除去后烘干；

(4)测硅料中金属杂质的含量，将不符合要求的硅料再次重复高温处理和酸浸步骤至硅料中金属杂质含量满足要求。

3.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(1)中所述的冶金硅料的粒度为20-50目。

4.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(1)中所述的预处理包括表面清洗、粉碎和筛选，所述的表面清洗为先采用HNO₃和HF的混合酸对硅料清洗1-2min，然后将硅料采用电阻率大于7MΩ·cm的去离子水进行超声波清洗10-20min，去除硅料表面的杂物，其中混合酸中HNO₃的摩尔分数为15-50％，HF酸的摩尔分数为1-5％。

5.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(2)中的反应气氛为氢气、氩气和氮气中的一种或几种。

6.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(2)中的反应压力为1-100kPa。

7.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(2)中所述的高温处理为先升温至800-1400℃再保温2-20h后自然冷却。

8.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(3)中所述的酸浸中采用的酸为HF、HCl和HNO₃的混合酸。

9.根据权利要求8所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：所述的混合酸中HF的摩尔分数为10-60％，HCl的摩尔分数为4-20％，HNO₃的摩尔分数为0-5％。

10.根据权利要求2所述的大颗粒冶金硅料金属杂质的去除方法，其特征是：步骤(3)中酸浸处理时硅料和酸的重量比为1∶1-5，酸浸时间为10-72h。