[发明专利]一种金属掺杂氧化锌基薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种金属掺杂氧化锌基薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)基片清洗后，放入磁控溅射装置室中，其反应室内抽至高真空；

2)采用高纯度金属纯度高于99.96％作为掺杂物靶材、高纯度氧化锌纯度高于99.96％为原料靶材，实现共溅射镀膜；

3)以氩气和高纯氧气混合气体作为溅射气体和反应气体，氩气和氧气的流量比为3∶1～1∶1；

4)在压强0.5～2帕斯卡、温度50-100度的低温条件下，进行溅射生长金属掺杂氧化锌基薄膜；

5)；氧化锌中金属的掺杂量可以通过溅射时的溅射功率来控制，金属靶与氧化锌靶的溅射功率比为：1∶1～1∶1.6，氧化锌的溅射功率为50瓦

6)制备完毕的薄膜在真空环境下退火处理，降至室温取出样品。

2.如权利要求1所述的一种金属掺杂氧化锌基薄膜的制备方法，所述的金属为铜、或银、或钯。

3.如权利要求1所述的一种金属掺杂氧化锌基薄膜的制备方法，其特征在于，所述的退火处理的真空度小于1×10-3帕斯卡，退火温度为600～800度，退火时间为10～25分钟。

4.如权利要求1所述的一种金属掺杂氧化锌基薄膜的制备方法，其特征在于，所述的衬底为硅片、或石英玻璃、或玻璃。