[发明专利]制造压印模的方法和使用压印模形成图案的方法

说明书

技术领域

本公开涉及制造压印模的方法和使用压印模来形成图案的方法。

背景技术

液晶显示(LCD)器件被归类为这样一种显示器件，即，其被配置成驱动每个像素中包括的如薄膜晶体管的开关元件。这样的LCD器件内的像素具有几十个微米的尺寸。这样的像素可以通过执行若干次精细图案形成工艺而形成。

通常使用必须采用设备进行的平版印刷术来形成精细图案。图案越精细，则在平版印刷术中采用的设备就变得更加昂贵。因此，目前正在对适于以低成本形成精细图案的多种技术进行研究。

实际上，LCD器件是通过形成诸如电极、阻挡层、绝缘膜等被用作功能膜(或层)的多种精细图案制造而成的。因此，低成本的精细图案形成技术正在被开发并应用于LCD器件的制造。低成本的精细图案形成技术包括压印方法。

图1A至图1C是例示在精细图案的形成中使用的相关技术的压印方法的截面图。

如图1A所示，基板11覆盖有抗蚀剂膜12。另外，具有凹版形状精细图案10a的模10定位在抗蚀剂膜12上方。

随后，如图1B所示，抗蚀剂膜12受到模10按压。此时，精细图案10a被转印到受到模10按压的抗蚀剂膜12上。

然后，抬起模10并使其与抗蚀剂膜12分离。结果，在抗蚀剂膜12上形成合模平坦面状(land shape)的精细图案12a。

在上述压印方法中使用的模10上形成的精细图案10a通过使用光刻胶执行照相和刻蚀工艺而形成。这样的精细图案10a只可以用于形成单层结构的图案。

同时，LCD器件被配置为包括多层结构的图案。依次地使用各自具有单层结构的图案的多个模来形成多层结构的图案。因此，LCD器件的制造工艺增加并且LCD器件的制造成本变高。因此，需要一种适于在LCD器件中形成多层结构的图案的新的压印模。

发明内容

因此，本实施方式旨在提供一种制造压印模的方法以及使用压印模的图案形成方法，其大体上克服了因相关技术的局限和缺点而带来的一个或更多个问题。

本实施方式的目的是提供一种制造适于形成多层结构的精细图案的压印模的方法以及使用该压印模来形成图案的方法。

本实施方式的附加特征和优点将在下面的描述中描述且将从该描述中部分地显现，或者可以通过本实施方式的实践来了解。通过书面的说明书及其权利要求以及附图中特别指出的结构可以实现和获得本实施方式的优点。

根据本实施方式的一个总的方面，一种制造压印模的方法包括以下工序：在基板上形成第一光刻胶图案；使用所述第一光刻胶图案作为刻蚀掩模来刻蚀所述基板，以在所述基板中形成第一图案；对所述第一光刻胶图案进行灰化以形成第二光刻胶图案；以及使用所述第二光刻胶图案来刻蚀所述基板，以形成从所述基板得到的第二图案和从所述第一图案得到的第三图案。

所述第二图案被形成为具有第一深度，并且所述三图案被形成为具有比所述第一图案的深度深的深度。

使用具有三种互不相同的透射率的掩模，将所述第一光刻胶图案形成为包括两个不同的台阶高度。

根据本实施方式的一个总的方面的该方法还包括以下工序：在所述基板和所述第一光刻胶图案之间形成金属膜。

使用所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案的所述刻蚀工序按照湿法刻蚀方法执行。

根据本实施方式的另一方面的一种压印模的制造方法包括以下工序：在基板上形成金属膜；在所述金属膜上形成第一光刻胶图案和第二光刻胶图案；使用所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案来刻蚀所述金属膜和所述基板，以形成第一金属图案、第二金属图案和第一图案；去除所述第二光刻胶图案和所述第二金属图案；以及使用所述第一光刻胶图案作为刻蚀掩模来刻蚀所述基板，以形成从所述基板得到的第二图案和从所述第一图案得到的第三图案。

所述第二图案被形成为具有第一深度，并且所述三图案被形成为具有比所述第一图案的深度深的深度。

所述第二光刻胶图案和所述第二金属图案被形成为具有比所述第一光刻胶图案的宽度窄的宽度。

所述去除所述第二光刻胶图案和所述第二金属图案的工序通过湿法刻蚀工艺执行。

使用所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案的所述刻蚀工序按照湿法蚀刻方法执行。