[发明专利]用于质谱分析的基质添加系统

权利要求书

1.一种用于质谱分析的基质添加系统，其特征在于，包含：加热池、热饱和管、冷凝管和外围控制模块，其中

所述加热池用于盛放基质溶液，所述加热池外部固定有第一加热带，基质在所述加热池中受热变成蒸汽，与进入所述加热池的气溶胶粒子混合在一起，并有一部分基质蒸汽附着在气溶胶粒子上；

所述热饱和管与所述加热池相连接，所述热饱和管外部固定有第二加热带，用于给气溶胶粒子和基质的混合气体一个适宜的温度，使更多的基质附着在气溶胶粒子上；

所述冷凝管与所述热饱和管相连接，所述冷凝管外部固定有制冷片，用于对从所述热饱和管出来的气体进行冷凝，使其中的未附着在气溶胶粒子上的汽态基质液化，回流到所述加热池中，从而在所述冷凝管出口得到附着基质的气溶胶粒子；

所述外围控制模块，分别与所述第一加热带、所述第二加热带和所述制冷片相连接，用于分别控制调节所述加热池、所述热饱和管和所述冷凝管的温度，并分别显示所述加热池、所述热饱和管和所述冷凝管的设定温度和当前温度。

2.如权利要求1所述的基质添加系统，其特征在于，所述加热池包括：通过螺纹相连接的底座和盖。

3.如权利要求1所述的基质添加系统，其特征在于，所述热饱和管与所述加热池之间为螺纹连接。

4.如权利要求1所述的基质添加系统，其特征在于，所述冷凝管与所述热饱和管通过聚四氟乙烯件相连接。

5.如权利要求1所述的基质添加系统，其特征在于，所述制冷片为半导体制冷片。

6.如权利要求5所述的基质添加系统，其特征在于，所述半导体制冷片与所述冷凝管通过过渡件连接。

7.如权利要求2所述的基质添加系统，其特征在于，所述外围控制模块包括：电源以及分别与其电连接的温度控制器、第一温度传感器、第二温度传感器、第三温度传感器、第一加热带控制部件、第二加热带控制部件和制冷片控制部件，其中

所述第一温度传感器设置在所述底座的底面；

所述第二温度传感器设置在所述热饱和管外侧；

所述第三温度传感器设置在所述冷凝管外侧；

所述第一加热带控制部件电连接在所述温度控制器和所述第一加热带之间；

所述第二加热带控制部件电连接在所述温度控制器和所述第二加热带之间；

所述制冷片控制部件电连接在所述温度控制器和所述制冷片之间。

8.如权利要求7所述的基质添加系统，其特征在于，所述第一温度传感器、所述第二温度传感器和所述第三温度传感器为PT100。

9.如权利要求1-8中任一项质添加系统，其特征在于，所述加热池和/或所述冷凝管下方支撑有材料为聚四氟乙烯的支撑件。