[发明专利]一种基于改进尾电流源结构的低相位噪声LC VCO无效

专利信息
申请号: 201010579378.3 申请日: 2010-12-08
公开(公告)号: CN102088289A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 邵志标;胡志刚;姚剑峰 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H03L7/099 分类号: H03L7/099;H03B5/12
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陆万寿
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 改进 电流 结构 相位 噪声 lc vco
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种低相位噪声的LC VCO(基于电感-电容谐振的压控振荡器)电路结构,具体涉及一种通过改进尾电流源电路结构来提高相位噪声性能的基于改进尾电流源结构的低相位噪声LC VCO。 

背景技术

LC VCO是通信系统中频率合成器的重要模块,它的相位噪声、功耗、面积等性能对通信系统有着重要影响。相位噪声影响着通信质量,各种通信系统如GSM、CDMA、ZigBee、802.11、GPS、UWB等都对相位噪声有严格的规定,而功耗和面积则对移动通讯终端的成本起着决定性作用,因此,在不增大功耗和面积的前提下,提高LCVCO的相位噪声性能成为当前的研究热点与难点。 

通常,LC VCO的相位噪声性能可以通过增大功耗或者提高电感Q来提高,但是这两种方法均会增大通信系统成本。针对这一问题,2001年Emad Hegazi和Asad.A.Abidi在文献A Filtering Technique toLower LC Oscillator Phase Noise[1]中提出了一种噪声滤波技术,该方法能够在不增加功耗的情况下提高LC VCO的相位噪声性能,但是需要引入额外的电感、电容来滤除尾电流源的二次谐波分量,因此该方法显著地增大了芯片面积;2004年C.C.Boon等人在文献RF CMOSLow-Phase-Noise LC Oscillator Through Memory Reduction TailTransistor中提出将LC VCO的尾电流源由固定偏置改为互补开关控 制,该方法可以减小尾电流源的1/f噪声,且不会增大芯片面积,但是由于尾电流源偏置在开关状态,所以尾电流大小不能保持恒定且电流大小随工艺偏差大,非恒定的尾电流将引入幅度噪声,并通过变容管的AM-FM调制转换为相位噪声,且工艺偏差对该结构性能的影响较大。2005年Thierry Lagutere等人在文献Method to design low noisedifferential CMOS VCOs without tail current source中提出将LC VCO的尾电流源去掉,该方法可以在不增加芯片面积的情况下得到更好的相位噪声性能,但是由于没有尾电流源,该结构性能随工艺偏差大,而且电源抑制性能和稳定性差。在现有的各种低相位噪声LC VCO结构中,相位噪声性能的提高均以面积的增大、性能稳定性或电压抑制性能的降低为代价。 

发明内容

本发明的目的在于提供一种工艺稳定性和电压抑制性能好、同时在不增加功耗和不太影响芯片面积的情况下能提高相位噪声性能的基于改进尾电流源结构的低相位噪声LC VCO。 

为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:该尾电流源结构的低相位噪声LC VCO的尾电流源由工作在线性区的P-MOSFET管M6和工作在饱和区的P-MOSFET管M8串联而成,P-MOSFET管M6与P-MOSFET管M8的栅极接在一起的,电流镜由另两个P-MOSFET管M5、M7对P-MOSFET管M6、P-MOSFET管M8构成,电流通过电流镜偏置到VCO中。 

同传统的LC VCO相比,本发明的结构只增加了两个位于线性区 的MOS管M5和M6相对于大面积的电感和电容来说,它们的面积可以忽略不计,所以,本发明基本上不会影响芯片面积。而另一方面,由于线性区工作的P-MOSFET管M6的漏源电压很小,从而,M6管的引入对VCO输出信号的最大摆幅影响较小。此外,M6管的引入使M8管的漏端(即A点)往电源看进去的等效电阻变大,从而谐振腔的损耗减小,使LC VCO可以实现更低的相位噪声。 

附图说明

图1为传统LC VCO结构; 

图2为本发明的LC VCO结构; 

图3为传统LC VCO的尾电流源噪声分析图; 

图4为本发明的LC VCO的尾电流源噪声分析图; 

图5为传统的LC VCO与本发明LC VCO的调谐曲线对比图; 

图6为频偏100kHz处两个VCO的相位噪声随VC的变化曲线对比图; 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010579378.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top