[发明专利]一种具有垂直磁各向异性纳米点阵列的制备方法无效
| 申请号: | 201010575867.1 | 申请日: | 2010-12-07 |
| 公开(公告)号: | CN102543107A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
| 发明(设计)人: | 王雅新;张永军;杨景海 | 申请(专利权)人: | 吉林师范大学 |
| 主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84 |
| 代理公司: | 吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204 | 代理人: | 石岱 |
| 地址: | 136000 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 垂直 各向异性 纳米 阵列 制备 方法 | ||
1.一种具有垂直磁各向异性纳米点阵列的制备方法,其特征在于:该制备方法包括以下步骤:
①、衬底的制备,采用自组装技术制备单层呈六角密堆的胶体阵列球面衬底;
②、双层膜沉积,采用溅射技术向①中制得的胶体阵列球面衬底上沉积Co/Pt多层膜,使得小球间隙的薄膜厚度仅为小球顶部薄膜厚度的2/3,从而获得具有垂直磁各向异性纳米点。
2.根据权利要求1所述的一种垂直磁各向异性纳米点的制备方法,其特征在于:所述制备单层呈六角密堆的胶体阵列球面衬底的步骤包括:a、将胶体小球铺展在水面;b、使小球单层密排在一起形成有序的单层膜;c、将有序的单层膜转移到衬底上。
3.根据权利要求1所述的一种垂直磁各向异性纳米点的制备方法,其特征在于:所述胶体阵列球面衬底上沉积薄膜时,薄膜的厚度沿球面逐渐减小,其厚度关系式为t=t0sinθ。
4.根据权利要求1所述的一种垂直磁各向异性纳米点的制备方法,其特征在于:所述Co/Pt多层膜存在产生垂直磁各向异性的临界角度θc,对于角度小于θc时,该多层膜不表现垂直磁各向异性;对于角度大于θc时,该多层膜具有垂直磁各向异性。
5.根据权利要求1所述的一种垂直磁各向异性纳米点的制备方法,其特征在于:所述向密堆排列单层胶体球阵列衬底上沉积薄膜时,阴影效应使得小球间隙的薄膜厚度仅为小球顶部薄膜厚度的2/3,穿过小球间隙沉积到衬底上的薄膜,由于厚度被削减了1/3而形成合金,不具垂直磁各向异性。
6.根据权利要求1所述的一种垂直磁各向异性纳米点的制备方法,其特征在于:所述沉积Co/Pt多层膜薄膜子层厚度Co为0.5-2.0nm,Pt为0.8-3nm时,产生垂直磁各向异性的纳米结构对应的角度θc为30-15o。
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