[发明专利]一种气化燃气炉无效
| 申请号: | 201010573377.8 | 申请日: | 2010-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN102003722A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
| 发明(设计)人: | 严志谋 | 申请(专利权)人: | 严志谋 |
| 主分类号: | F24C3/00 | 分类号: | F24C3/00;C10J3/66;C10J3/72;C10J3/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 338000 江西省新余*** | 国省代码: | 江西;36 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 气化 燃气炉 | ||
技术领域:本发明涉及一种改进的气化燃气炉,特别是一种气化彻底、燃烧孔不易被堵、焦油回收好、使用中填料无烟的气化燃气炉。
技术背景:为解决现有气化燃气炉操作难度大、灶头结构不合理等问题,本人申请了一种名称为“使用方便高效节能的气化燃气炉”的专利申请,见附图1,它由制气炉1、废气排管2、风机5、焦油废水一次净化器6、焦油废水二次净化器7、灶头8、供氧喷嘴9组成。它的优点是:去除了分支助氧管等,结构简单紧凑、操作方便易掌握、降低了环境污染和焦油的浪费,使用中,它仍存有不足之处:主要表现在:一、炉中用料没有得到充分气化,用料的利用率不高,这因为炉中是通过供氧喷嘴9供氧,而供氧喷嘴9为菱形锥体,其表面积小,它供氧辐射范围小,尤其是那些离供氧喷嘴9远且位于炉周壁旁的用料所获得供氧非常有限,所以使得气化效果不太好;二、灶头8的燃烧孔容易被堵塞,需要经常清除,给使用带来麻烦,其问题是虽然经过净化器的净化,但在燃气中还仍存有一定量的焦油、水分及杂质等,当燃气上升到灶头8燃烧孔处燃烧时,其携带的焦油、水分及杂质等会附着在燃烧孔处燃烧,使得燃烧孔被堵塞;灶头8的燃烧孔布面仅为倒圆锥台的斜面,火力较弱;三、通过净化器回收的焦油未能得到有效的利用,这因为净化器6下部的回流管的出口位于供氧喷嘴9的侧旁,其焦油、水分等直接落在制气炉1底部,不能得到充分的气化利用;四、在使用中填料时,有溶烟冒出,污染环境且损害操作人员的身体健康,因为填料时,需打开制气炉1顶部的炉盖,虽然风机5停止供风,但炉中的烟气在炉盖打开的时段仍然很容易从炉中逸出。
发明内容:针对上述气化燃气炉在使用中存在的问题,本发明的主要目的在于,提出一种炉中用料可充分气化的气化燃气炉;次要目的在于,提出一种灶头燃烧孔不容易被堵塞、回收的焦油能得到有效的利用、使用中可无烟填料的气化燃气炉。
通过下述技术方案可实现本发明目的,一种气化燃气炉,包括制气炉、废气排管、风机、焦油废水净化器、灶头,其特征在于,供氧喷嘴为环状圆锥台空腔体,它沿制气炉下部内周壁设置,斜面为喷嘴面。
喷嘴面的截面夹角为45~80°。
为防止灶头燃烧孔不被堵塞,在灶头内腔中设有圆形水平挡板。
为提高灶头火力,灶头倒圆锥台的斜面和底面均布有燃烧孔。
焦油废水净化器回流管的出口位于供氧喷嘴上方炉腔中心部。
为防止填料时炉中烟气逸出,在炉体顶部开口端处设有伸向炉体内腔的漏斗状挡板。
漏斗状挡板的截面夹角为45~80°。
本发明的效果在于:1、炉中用料可以得到充分气化,用料的利用率高,这因为炉中的供氧喷嘴发生了改变,由一个小的菱形锥体改成一个供氧喷嘴面积大数十倍的环状圆锥台空腔体,它供氧辐射面积大,而且由周壁向中心部辐射,可使炉中用料得到充分供氧,使其气化充分;2、灶头的燃烧孔不容易被堵塞,不需要经常清除,使用简便,这在于,本装置对灶头结构进行了改进,在灶头内腔中设有圆形水平挡板,该水平挡板可将燃气中携带的绝大部分的焦油、水分及杂质阻挡住,避免了燃烧孔被堵塞的情况频繁发生;3、通过净化器回收的焦油得到了有效的利用,这因为净化器的回流管的出口位于供氧喷嘴上方的中心部,其焦油、水分在跌落时,即落在气化高温区,它们迅速进行第二次裂解转化成可燃气体;灶头的火力强,这因为在灶头倒圆锥台的底面布有燃烧孔,燃气可直接上升进入燃烧孔燃烧,动能没损耗;4、在使用中填料时,没有溶烟冒出,环境得到净化,操作人员的身体健康得到保护,这因为当风机停止供风,在炉体顶部开口端处设有伸向炉体内腔的漏斗状挡板,该挡板使得挡板下背面的热气体流速加快、压强降低,炉中热气体绝大部分沿挡板下背面向上流动,漏斗状挡板的中心部下料口则很少有烟气逸出。
下面结合附图及实施例对本发明进一步阐述:
附图说明:
附图1为现有气化燃气炉的结构示意图(局部剖视)。
附图2为本发明实施例1的结构示意图(局部剖视);
附图3为附图2中灶头的剖视图(放大);
附图4为本发明实施例2的结构示意图(局部剖视);
附图5为本发明实施例3的结构示意图(局部剖视)。
具体实施方式:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于严志谋,未经严志谋许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010573377.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





