[发明专利]等离子清洁装置有效

专利信息
申请号: 201010573196.5 申请日: 2010-12-03
公开(公告)号: CN102486986A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 何伟业 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;B08B7/00;H01L21/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 等离子 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子清洁装置,包括:等离子腔室,设置于等离子腔室内用于承载待清洁工件的基座;等离子体发生器,用于产生等离子体;离子加速器,用于产生加速电场加速等离子体中的离子形成离子束;其特征在于,还包括设置于所述离子束路径上的过滤器,所述过滤器通过偏转场偏转离子束中离子的运动方向,过滤射向待清洁工件的离子。

2.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述过滤器为电场过滤器,偏转场为电场。

3.如权利要求2所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述电场过滤器包括:用于产生所述偏转电场的电极板;设置于所述电极板间的过滤挡板,用于接收偏转的离子。

4.如权利要求3所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述过滤挡板在所述电极板间等距并行排列。

5.如权利要求2所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述偏转电场的电场方向垂直于加速电场。

6.如权利要求2所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述离子加速器包括位于基座上方正对所述基座的上电极板以及位于基座下方的下电极板;所述电场过滤器设置于基座与离子加速器的上电极板之间。

7.如权利要求2所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述离子加速器为电磁线圈加速器;所述电场过滤器设置于基座与离子加速器的电磁线圈之间。

8.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述过滤器为磁场过滤器,偏转场为磁场。

9.如权利要求8所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述磁场过滤器包括:用于产生所述偏转磁场的电磁线圈;设置于所述电磁线圈间的过滤挡板,用于接收偏转的离子。

10.如权利要求9所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述过滤挡板在所述电磁线圈间等距并行排列。

11.如权利要求8所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述偏转磁场的方向垂直于加速电场。

12.如权利要求8所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述离子加速器包括位于基座上方正对所述基座的上电极板以及位于基座下方的下电极板;所述磁场过滤器设置于基座与离子加速器的上电极板之间。

13.如权利要求8所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述离子加速器为电磁线圈加速器;所述磁场过滤器设置于基座与离子加速器的电磁线圈之间。

14.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,所述等离子体发生器为感应耦合等离子体发生器。

15.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,还包括与等离子腔室连接的通气管道,用于通入作为等离子体源的清洁气体。

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