[发明专利]载银纳米蒙脱土抗菌剂及其制备方法

权利要求书

1.载银纳米蒙脱土抗菌剂，其特征在于，以有机化插层处理的纳米蒙脱土为载体，负载银离子抗菌有效成分，抗菌性有效成分银离子的含量为纳米蒙脱土重量的6～9％。

2.根据权利要求1所述的载银纳米蒙脱土抗菌剂，其特征在于，所述的纳米蒙脱土为钠基或钙基蒙脱土，整个结构片层厚1纳米，长、宽100纳米。

3.根据权利要求1所述的载银纳米蒙脱土抗菌剂，其特征在于，所述的有机化插层处理剂为十六烷基三甲基溴化铵或十六烷基三甲基氯化铵。

4.根据权利要求1所述的载银纳米蒙脱土抗菌剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.将纳米蒙脱土与去离子水配制成15％悬浮液，加入纳米蒙脱土重量的50％～100％的有机化处理剂，搅拌并升温至60℃，搅拌3～4小时后，抽滤分离，洗涤，干燥，得到有机化插层处理的纳米蒙脱土。

b.将硝酸银配制成0.1～0.2mol/L水溶液，加入硝酸银摩尔量1～2倍的氨水，然后加入有机化插层处理的纳米蒙脱土，60℃下搅拌1小时，抽滤分离，洗涤，干燥，得到载银纳米蒙脱土抗菌剂。

5.根据权利要求4所述的载银纳米蒙脱土抗菌剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.将纳米蒙脱土与去离子水配制成15％悬浮液，加入纳米蒙脱土重量的100％的有机化处理剂十六烷基三甲基氯化铵，搅拌并升温至60℃，搅拌4小时后，抽滤分离，洗涤，干燥，得到有机化插层处理的纳米蒙脱土。

b.将硝酸银配制成0.2mol/L水溶液，加入硝酸银摩尔量1倍的氨水，然后加入有机化插层处理的纳米蒙脱土，60℃下搅拌1小时，抽滤分离，洗涤，干燥，得到载银纳米蒙脱土抗菌剂。