[发明专利]一种交联阴离子膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种交联阴离子膜，其特征在于：其为含苄基卤基团的聚合物通过双胍或多胍交联而成的阴离子膜。

2.按照权利要求1所述交联阴离子膜，其特征在于：

所述用于交联反应的聚合物为含苄基卤基团的聚合物，含苄基卤基团的聚合物包括氯甲基化聚芳醚砜、氯甲基化聚砜、氯甲基化酚酞型聚芳醚砜、溴甲基化聚芳醚砜、溴甲基化聚砜、溴甲基化酚酞型聚芳醚砜、溴甲基化聚苯醚、氯甲基化聚苯醚、氯甲基化聚醚醚酮、溴甲基化聚醚醚酮、氯甲基化聚苯并咪唑、溴甲基化聚苯并咪唑、聚氯甲基化苯乙烯、含聚氯甲基化苯乙烯共聚物中的一种或二种以上；聚合物的卤甲基化程度范围为0.1～20mmolg^-1。

3.按照权利要求1所述交联阴离子膜，其特征在于：

所述的双胍结构为：

R₁-CH₂-M-CH₂-R₂

其中，M可A₁，A₁-A₂，A₁-A₂-A₃，A₁-A₂-A₃-A₄，…，A₁-A₂-…-A₉₉-A₁₀₀；

其中A₁，A₂，A₃，A₄，…A₉₈，A₉₉，A₁₀₀可为下述结构中的一种，

-C_nH_2n--O-

n＝0-20；

所述的多胍结构为：

其中，M，Z，Q可为A₁，A₁-A₂，A₁-A₂-A₃，A₁-A₂-A₃-A₄，…，A₁-A₂-…-A₉₉-A₁₀₀；

其中A₁，A₂，A₃，A₄，…A₉₈，A₉₉，A₁₀₀可为下述结构中的一种，

-C_nH_2n-，-O-

n＝0-20，h＝1-1000；

R₁、R₂、R₃、R₆结构为下述结构中的一种，

其中Q₁～Q₁₀＝C_tH_2t+1，t＝1～20

R₄、R₅结构为下述结构中的一种或二种以上，

其中Q₁～Q₁₀＝C_tH_2t+1，t＝1～20，T^-为Br^-、Cl^-或OH^-。