[发明专利]壳体及其制作方法有效
| 申请号： | 201010561023.1 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102477533A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李光辉 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，其特征在于：该色彩层为氧化亚锡层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层的厚度为200～400nm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层呈现蓝色。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体为金属、玻璃或陶瓷。
5.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为氧化亚锡层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，以锡靶为靶材，以氧气为反应气体，控制氧气的流量为50～150sccm，溅射的温度为50～100℃；所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
6.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：真空度为3×10-5Pa，锡靶的功率为8～12kw，以氩气为工作气体，氩气的流量为100～300sccm，施加于基体的偏压为-250～-500V，占空比为50～100％，镀膜时间为20～40min。
7.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：该基体为金属、玻璃或陶瓷。
8.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：该色彩层的厚度为200～400nm。
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