[发明专利]曝光头以及图像形成装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过成像光学系统对来自发光元件的光进行成像的曝光头，以及使用了该曝光头的图像形成装置。

背景技术

在专利文献1中公开了一种曝光头，该曝光头具有：由在主扫描方向上排列的多个发光元件构成的发光元件组，和与该发光元件组对置的成像光学系统。也就是说，该曝光头为，通过由成像光学系统对来自发光元件的光进行成像，从而将光点照射在被曝光面上的构件。并且，通过由成像光学系统对分别来自发光元件组中的多个发光元件的光进行成像，从而多个光点被照射在主扫描方向上的互不相同的位置上，由此使各个光点的照射部分被曝光。另外，在感光体鼓等的潜像载体的表面上形成潜像时，通过使潜像载体表面在副扫描方向上移动的同时，使发光元件组中的各个发光元件在对应于潜像载体表面的移动的正时进行发光，从而能够形成所需潜像。

另外，在此种曝光头中，为了充分确保用于光点形成的发光量，优选为增大发光元件的大小(直径、面积)。但是，仅通过将多个发光元件排列成一条直线，难以充分地增大各个发光元件。因此，在该曝光头中，在包括主扫描方向以及副扫描方向的平面内，多个发光元件以二维的方式被配置。具体来说，在各个发光元件组中，多个发光元件在主扫描方向上以两行交错的方式排列，换言之，沿主扫描方向直线排列的发光元件的行(发光元件行)，在副扫描方向上配置有两行。

在先技术文献

【专利文献1】日本特开2009-098613号公报

发明内容

发明所要解决的课题

而且，还可通过在副扫描方向上配置3行或者3行以上的发光元件行，而构成一个发光元件组。但是，在将发光元件行的行数设定在3行以上时，存在如下问题。也就是说，在发光元件组中，需要以避免发光元件行彼此之间相互干涉的方式，设定在副扫描方向上相邻的发光元件行之间的距离。但是，在副扫描方向上配置有3行发光元件行的结构中，如果在避免发光元件行彼此间干涉的同时还要充分地增大发光元件，则有时难以在副扫描方向上以相等距离(相等间隔)配置这3行发光元件行。因此，在此种情况下，第1行和第2行之间在副扫描方向上的距离、与第2行和第3行之间在副扫描方向上的距离将会互不相同。即，3行发光元件行被配置在副扫描方向上的互不相同的位置，而且这些发光元件行之间在副扫描方向上的距离不是固定的距离。

但是，在使以此种方式配置的3行发光元件行中的各个发光元件，在对应于潜像载体表面向副扫描方向移动的正时发光时，有必要使属于互不相同的发光元件行的3个发光元件分别以不同的正时发光，从而存在发光元件的发光正时控制复杂化的课题。

本发明是鉴于上述课题而实施的发明，其目的在于，提供一种能够简化发光元件的发光正时控制的技术。

用于解决课题的方法

为了实现上述目的，本发明所涉及的曝光头的特征在于，具有：

发光元件基板，其具有发出光线的第1发光元件、被配置在第1发光元件的第1方向上的第2发光元件、第3发光元件以及第4发光元件，

其中，这些发光元件被配置为，具有下述关系，即，

Dr12∶Dr23＝l∶m(l≠m)，

其中，l为正整数，m为正整数；Dr12为，所述第1发光元件和所述第3发光元件之间的、在与所述第1方向正交的方向上的距离；Dr23为，所述第3发光元件和所述第4发光元件之间的、在与所述第1方向正交的方向上的距离；

成像光学系统，对由第1发光元件、第2发光元件、第3发光元件以及第4发光元件发出的光进行成像。

在以此种方式构成的发明(曝光头)中，在第1方向上配置第1发光元件以及第2发光元件而构成发光元件行，且第1发光元件、第3发光元件以及第4发光元件被配置在与第1方向正交的方向(正交方向)上的不同位置上。另外，第1发光元件和第3发光元件之间在正交方向上的距离Dr12、与第3发光元件和第4发光元件之间在正交方向上的距离Dr23互不相同。因此，如上文所述，有必要使第1发光元件、第3发光元件以及第4发光元件以各自不同的正时发光，从而存在发光正时的控制复杂化的情况。对此，在本发明中，将发光元件配置成，满足下述关系，即，Dr12∶Dr23＝l∶m(l≠m)，其中，l为正整数，m为正整数；Dr12为，所述第1发光元件和所述第3发光元件之间的、在与所述第1方向正交的方向上的距离；Dr23为，所述第3发光元件和所述第4发光元件之间的、在与所述第1方向正交的方向上的距离。因此，能够应用使第1发光元件、第2发光元件、第3发光元件以及第4发光元件以共同的正时发光的所谓发光正时控制，从而能够实现发光正时控制的简单化。