[发明专利]一种基于光学干涉原理的彩色印刷方法无效

专利信息
申请号: 201010559856.4 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN102152674A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 沈伟东;余鹏;刘旭;李海峰;章岳光;顾培夫;艾曼灵 申请(专利权)人: 浙江大学;杭州科汀光学技术有限公司
主分类号: B41M1/14 分类号: B41M1/14;B41M1/30
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 光学 干涉 原理 彩色 印刷 方法
【权利要求书】:

1.一种基于光学干涉原理的彩色印刷方法,其特征在于,以光学塑料薄膜为承载体,以若干个尺度为200纳米~100微米且反射颜色各异的光学干涉器件构成基本像素,在承载体上二维排列基本像素构成彩色图形。

2.如权利要求1所述的彩色印刷方法,其特征在于,所述的光学干涉器件为红色光学薄膜滤光片、绿色光学薄膜滤光片和蓝色光学薄膜滤光片。

3.如权利要求2所述的彩色印刷方法,其特征在于,所述的红色光学薄膜滤光片、绿色光学薄膜滤光片和蓝色光学薄膜滤光片均由第一金属薄膜、聚合物薄膜和第二金属薄膜组成;

所述的第一金属薄膜层为铝、银或者金薄膜层,厚度为50纳米~200纳米;所述的聚合物薄膜层为聚甲基丙烯酸甲酯或者光刻胶薄膜层,构成红色光学薄膜滤光片、绿色光学薄膜滤光片和蓝色光学薄膜滤光片中的聚合物薄膜的厚度分别为295纳米、520纳米和425纳米;所述的第二金属薄膜层为铬、镍或者钨薄膜层,厚度为2纳米~20纳米。

4.如权利要求1~3任一所述的彩色印刷方法,其特征在于,所述的基本像素通过以下步骤制得:

(1)在光学塑料薄膜上采用真空电子束蒸发或者溅射沉积一层第一金属薄膜;

(2)在第一金属薄膜上,采用旋涂或者喷涂聚合物薄膜;所述的聚合物薄膜厚度为50纳米~600纳米;

(3)在聚合物薄膜上采用纳米压印技术,经过加热、施压、冷却和脱模过程形成厚度不同的聚合物薄膜浮雕图形;

(4)在压印了浮雕图形的聚合物薄膜上采用真空电子束蒸发或者溅射沉积一层第二金属薄膜,形成红色光学薄膜干涉滤光片、绿色光学薄膜干涉滤光片和蓝色光学薄膜干涉滤光片。

5.如权利要求4所述的彩色印刷方法,其特征在于,所述的第一金属薄膜层为铝、银或者金薄膜层,厚度为50纳米~200纳米;所述的聚合物薄膜层为聚甲基丙烯酸甲酯或者光刻胶薄膜层,构成红色光学薄膜滤光片、绿色光学薄膜滤光片和蓝色光学薄膜滤光片中的聚合物薄膜的厚度分别为295纳米、520纳米和425纳米;所述的第二金属薄膜层为铬、镍或者钨薄膜层,厚度为2纳米~20纳米。

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