[发明专利]一种清洗硅材料的方法无效
申请号: | 201010559200.2 | 申请日: | 2010-11-24 |
公开(公告)号: | CN102092716A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 钱利峰;王永甫;鲁学伟 | 申请(专利权)人: | 浙江芯能光伏科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波;逯长明 |
地址: | 314400 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 材料 方法 | ||
1.一种清洗硅材料的方法,其特征在于,包括以下步骤:
a)将硅材料在稀氢氟酸或稀盐酸溶液中浸泡;
b)将浸泡过的硅材料用高纯水清洗干净;
c)将硅材料干燥。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述a)之前先将硅材料用超声波清洗,擦去硅材料表面大块杂质。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述a)为将硅材料在稀氢氟酸溶液中浸泡。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述稀氢氟酸的质量体积百分比浓度为25%~35%。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述稀氢氟酸的质量体积百分比浓度为30%。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述c)具体为先用离心机将硅材料脱水甩干,再烘干。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述硅材料为边皮料、多晶棒、头料或尾料。
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