[发明专利]抗蚀剂墨液用粘结剂树脂和使用其的抗蚀剂墨液有效
| 申请号: | 201010552478.7 | 申请日: | 2010-11-17 | 
| 公开(公告)号: | CN102070744A | 公开(公告)日: | 2011-05-25 | 
| 发明(设计)人: | 清水圭世;西马千惠;竹内义浩;市川裕司 | 申请(专利权)人: | DNP精细化工股份有限公司 | 
| 主分类号: | C08F220/14 | 分类号: | C08F220/14;C08F222/12;C08F290/06;C08F8/00;G03F7/033 | 
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 | 
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 抗蚀剂墨液用 粘结 树脂 使用 抗蚀剂墨液 | ||
技术领域
本发明涉及可以改善高颜料浓度抗蚀剂墨液或使用细微颜料的抗蚀剂墨液的显影性的抗蚀剂墨液用粘结剂(binder)树脂。
背景技术
液晶显示装置中所使用的滤色器一般具有透明基板、在透明基板上形成的包含红、绿、蓝三原色的着色图案的着色层。
作为这样的着色层的形成方法,一般可以应用使用了含有颜料的抗蚀剂墨液的光刻法。
然而,对于这样的光刻法中所使用的抗蚀剂墨液而言有以下需求,即为了着色层的薄膜化而希望其颜料浓度的提高,为了高亮度、高对比度化而希望颜料的细微化。这样的颜料浓度提高、颜料的细微化会导致墨液成分中的颜料分散剂的增加,其结果是存在显影性下降的问题。
另外,其结果会有以下问题:迫使使用强力的显影液或导致显影时间的增加,在形成的着色层上产生膜龟裂。
进而,还存在因显影液的变更等而需要与以往不同的条件、设备的问题。
为了解决这样的显影性下降的问题,在专利文献1中公开了通过控制抗蚀剂墨液中所含的粘结剂树脂的酸值来提高显影性的方法。
然而,在使用这样的方法的情况下,在颜料浓度提高时或者使用了细微颜料时,存在显影性不充分的问题。
【专利文献】
【专利文献1】日本特开2006-276878号公报
发明内容
本发明是鉴于上述问题而研发的,其主要目的在于,提供可以改善使用高颜料浓度、细微颜料的抗蚀剂墨液的显影性的抗蚀剂墨液用粘结剂树脂。
为了解决上述课题,本发明提供一种抗蚀剂墨液用粘结剂树脂,其特征在于,含有具有下述通式(I)所示的构成单元(1)的共聚物作为主链结构,
(式(I)中,R1为氢或甲基,R2、R3、R4和R5分别独立地为氢或碳原子数1~6的烃基,R2或R3可以与R4或R5形成环。
另外,X为至少具有亚烷基且链长方向的碳原子和氧原子的合计数为2~85的范围内的2价有机基团。)
根据本发明,通过上述共聚物具有上述构成单元(1),可以显著地提高对碱性显影液的溶解性,因此,可以使上述抗蚀剂墨液用粘结剂树脂的显影性变得优异。
因此,使用这样的抗蚀剂墨液用粘结剂树脂时,可以使使用高颜料浓度的抗蚀剂墨液、使用细微颜料的抗蚀剂墨液的显影性变得优异。
在本发明中,上述构成单元(1)优选为下述通式(a)、(b)和(c)所示的结构。这是因为它们可以使显影性特别优异。
(式(a)、(b)和(c)中,R11为氢或甲基,R12、R13、R14和R15分别独立地为氢或碳原子数1~6的烃基,R12或R13可以与R14或R15形成环。
另外,R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27和R28分别独立地为氢或甲基,a为2~5的整数,b和c为0或1~10的整数(b和c不同时为0),d为4~6的整数,e为1~10的整数。)
在本发明中,上述构成单元(1)优选使用下述通式(II)所示的化合物来形成。这是因为通过使用上述通式(II)所示的化合物,可以使上述共聚物成为具有所需量的所需的构成单元的化合物。
(式(II)中,R31为氢或甲基,R32、R33、R34和R35分别独立地为氢或碳原子数1~6的烃基,R32或R33可以与R34或R35形成环,
另外,Y为至少具有亚烷基且链长方向的碳原子和氧原子的合计数为2~85的范围内的2价有机基团。)
在本发明中,上述构成单元(1)优选通过将下述通式(III)所示的化合物的聚合后再与酸酐反应来形成。这是因为易于将上述共聚物形成为具有所需量的所需的构成单元的物质。
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