[发明专利]二层或多层铁电驻极体及其制备方法

权利要求书

1.制备包含空隙(5)的二层或多层铁电驻极体(3)的方法，所述铁电驻极体不包括具有由两个FEP层中间的PTFE制造的穿孔的中间层的三层铁电驻极体，该方法特征在于以下步骤：

A)借助于去除方法将一个或多个间隙(4a)引入聚合物膜元件(1)的至少一个表面侧，

B)将第一覆盖物(2)施加到包含在步骤A)中形成的间隙(4)的聚合物膜元件(1)的表面侧，和

C)将聚合物膜元件(1)和覆盖物(2)结合形成聚合物膜复合材料(3)，间隙(4)被封闭而形成空隙(5)。

2.权利要求1的方法，特征在于步骤A)中间隙(4a)的引入通过激光烧蚀、蚀刻、刨削、磨削和/或铣削来进行。

3.权利要求1的方法，特征在于在步骤A1)中将一个或多个间隙(4b)引入覆盖物(2)的表面侧。

4.权利要求3的方法，特征在于覆盖物(2)的表面侧中的间隙(4b)和聚合物膜元件(1)的表面侧中的间隙(4a)被设置成使得它们至少部分重叠，并因此形成共同的空隙(5)。

5.权利要求1的方法，特征在于聚合物膜元件(1)和/或覆盖物(2)包括相互结合的至少第一和第二聚合物膜(1a、1b)；(2a、2b)。

6.权利要求5的方法，特征在于步骤A)中将间隙(4a)引入聚合物膜元件(1、1a)的表面侧和/或在步骤A1)中将间隙(4b)引入覆盖物(2)的表面侧进行到直至第二聚合物膜(1b、2b)。

7.权利要求1的方法，特征在于在步骤C)中聚合物膜元件(1)和覆盖物(2)结合形成二层或多层铁电驻极体(3)通过层压、粘合剂粘结、扣紧、卡装、螺纹连接、铆接或焊接来进行。

8.权利要求1的方法，特征在于将电极(6)施加到二层或多层铁电驻极体(3)的朝外的表面在步骤D)中空隙(5)的内表面充电之前和/或之后来进行。

9.权利要求1的方法，特征在于步骤A)、B)、C)和/或D)以连续卷-到-卷工艺进行。

10.权利要求1的方法，特征在于包括在步骤D)中空隙(5)的内表面充电之前或之后作为另外的步骤E)来将步骤C)中形成的二层或多层铁电驻极体(3)的边缘密封。

11.权利要求1的方法，特征在于包括在步骤D)中的极化之前在另外的步骤F)中将气体充填到二层或多层铁电驻极体(3)中的空隙(5)中。

12.具有空隙的二层或多层铁电驻极体，该铁电驻极体不包括具有由两个FEP层之间的PTFE制造的穿孔的中间层的三层铁电驻极体，所述具有空隙的二层或多层铁电驻极体包含：

-至少第一聚合物膜元件(1)，其具有至少一个包含间隙(4a)的表面侧，和

-至少第一覆盖物(2)，

覆盖物(2)被设置在所述包含间隙(4a)的聚合物膜元件(1)的第一表面侧上，和

间隙(4a)由覆盖物(2)封闭，从而形成空隙(5)。

13.二层或三层铁电驻极体，特征在于其通过权利要求1的方法生产。

14.压电元件，其包含权利要求12或13的二层或多层铁电驻极体，特征在于所述聚合物膜元件和/或覆盖物包括至少两个相互结合的聚合物膜。

15.权利要求14的压电元件，特征在于其为传感器、执行器和/或发电元件。