[发明专利]马铃薯覆草盖膜栽培技术

权利要求书

1.一种马铃薯覆草盖膜栽培技术，其特征在于在平整好的畦面上，开两行深5～6cm的浅沟，将种薯按密度要求距离摆在沟内，切面朝上，芽眼面朝下，将集中施用的基肥盖在种薯上，然后将准备好的麦草或稻草，草尖对草尖均匀覆盖整个畦面上，轻轻压实或压上细土，厚度8～10cm，不留空隙无漏光，不漏土，随时加覆地膜，铺膜后顺小沟用土压实。

2.根据权利要求1所述的马铃薯覆草盖膜栽培技术，其特征在于所述的畦面的平整方式为改起垄，平作为高畦双行栽培，便于覆草盖膜；宽行60～70cm，窄行30～40cm，株距17～30cm畦面宽75～80cm，4000～6000株每667m²。

3.根据权利要求1所述的马铃薯覆草盖膜栽培技术，其特征在于所述的基肥为有机肥2000kg/667m²、草木灰200～250kg/667m²和拌合过磷酸钙25kg/667m²的混合物，其中2/3结合耕地翻入耕作层，1/3开播种沟时集中沟施。

4.根据权利要求1所述的马铃薯覆草盖膜栽培技术，其特征在于所述的种薯选用30～50g小种薯整薯播种结果，大种薯应切块，催芽前1～2天进行，每块1～2芽眼，切后用凉水冲洗后晾4～8h，秋季种植小种薯用1～2mg/kg的赤霉素溶液浸种5～10min，切块大种薯整薯的在5～10mg/kg的赤霉素溶液中浸种1～2h，然后置于温暖暗室进行催芽，适宜温度15～18℃，空气相对湿度控制在70～80％，给予散射光照，经15～20天形成0.5～1.5cm的绿色粗壮芽。

5.根据权利要求4所述的马铃薯覆草盖膜栽培技术，其特征在于所述的种薯选择早熟、丰产、抗病、适应性强，高产质量好的脱毒品种，优选东农303、鲁引1号。