[发明专利]足用按摩机

说明书

技术领域

本发明涉及一种能够对被施疗者的足体(足先)进行按摩的足用按摩机，更具体而言，涉及一种能够利用多个足底用按摩机构同时对被施疗者的足底实施按摩的足用按摩机。

背景技术

提出有对被施疗者的足体(被施疗者的脚踝骨靠下侧)实施按摩的足用按摩机(例如参照专利文献1)。

专利文献1中的足用按摩机具有供被施疗者的足体插入的左右一对的凹部，并且在各凹部的侧部内壁分别配置有对被施疗者的足体的侧部进行按摩的按摩板，在凹部的底面配置有能够摆动的足底板(足裏プレ一ト)。

按摩板以长度方向彼此反向倾斜的状态安装于配置在凹部下方的沿左右方向延伸的旋转轴，通过旋转轴旋转使左右一对的按摩板对称地摆动，从而二者接近、分离，通过按摩板从两侧夹入被施疗者的足体来对足体进行按压按摩。

另外，足底板的一端侧的里面通过弹簧支承为能够上下运动，偏心的辊与足底板的另一端侧的里面抵接，通过利用偏心支承该辊的旋转轴使该辊旋转，使足底板倾斜动作，从而按压按摩被施疗者的足底。

专利文献1：日本特开2003-665号公报

在上述的足用按摩机中，对于足底例如只能对脚心的一个部位实施按摩，从而容易导致按摩单调而不能令人满意。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够对足底的多个部位同时实施按摩的足用按摩机。

为了解决所述问题，本发明的足用按摩机具备：

驱动机构，其能够通过控制机构控制旋转及停止；

旋转轴，其通过驱动机构能够旋转；

足底用按摩机构，其为存在规定间隔地配置在该旋转轴上的左右的足底用按摩机构，该左右的足底用按摩机构具有对被施疗者的脚心进行按摩的第一足底用按摩机构和对被施疗者的足底的脚尖侧进行按摩的第二足底用按摩机构，其中，

第一足底用按摩机构及第二足底用按摩机构分别随着旋转轴的旋转，分别对脚心及足底的脚尖侧实施按压按摩。

发明效果

通过对被施疗者的足底同时施加由第一足底用按摩机构和第二足底用按摩机构进行的按压按摩，能够施加富有变化的高效的足底按摩。

附图说明

图1是本发明的足用按摩机的立体图。

图2是拆下上罩后的足用按摩机的立体图。

图3是表示被施疗者的足体插入图2的足用按摩机后的状态的立体图。

图4是表示拆下上罩后的足用按摩机的俯视图。

图5是图4的沿着线A-A的剖视图。

图6是示意性表示按摩板的运动的说明图。

图7是表示足底用按摩机构的运动的剖视图。

图8是表示足底用按摩机构的运动的剖视图。

图9是表示使足体向前方移动来接受由足底用按摩机构进行的按摩的状态的剖视图。

图10是表示使足体向前方移动来接受足底用按摩机构进行的按摩的状态的剖视图。

图11是在包括图1的C-C线的垂直面内剖开而沿箭头方向观察到的放大剖视图。

符号说明：

10    足用按摩机

40    驱动机构

44    旋转轴

50    足体用按摩机构

51    内侧按摩板

54    内侧倾斜轴部

57    限动件

61    外侧按摩板

64    外侧倾斜轴部

67    限动件

70    足底用按摩机构

71    第一足底用按摩机构

72    圆板体

73    指压辊

81    第二足底用按摩机构

82    偏心轴

83    按摩曲轴

84    按摩辊

85    连接片

具体实施方式

图1是本发明的足用按摩机10的立体图。如图所示，足用按摩机10具有壳体12，该壳体12包括形成供被施疗者的足体插入的左右一对的凹部21、21的开口缘22、22的上罩20和与该上罩20上下成对且载置在地面上的下罩30。

凹部21、21的脚尖侧及上侧开口，在开口缘22、22施加有具有伸缩性的布罩23、23。

在上罩20上配置有用于在凹部21、21间进行操作的操作部24。

另外，在上罩20的开口缘22、22的前端设置有多个指压突起25、25，通过使被施疗者的足底前后运动，该指压突起25、25对被施疗者提供指压效果。