[发明专利]磁光隔离器消光比测量方法及光学参数测量装置无效
| 申请号: | 201010539814.4 | 申请日: | 2010-11-11 |
| 公开(公告)号: | CN102466559A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
| 发明(设计)人: | 樊仲维;王家赞 | 申请(专利权)人: | 北京国科世纪激光技术有限公司 |
| 主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G01M11/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 100192 北京市海淀区西*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 隔离器 测量方法 光学 参数 测量 装置 | ||
1.一种磁光隔离器消光比的测量方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:
a.提供沿光路依次设置的一个激光器、一个扩束镜、一个缩束镜、一个检偏器和一个光电传感器件;
b.旋转检偏器到一个基准角度示值θ1,此时所述光电传感器件读数为P1;
c.在所述激光器和所述扩束镜之间放入一个起偏器,旋转所述起偏器,使所述光电传感器件读数为第一最小值P2;
d.在所述扩束镜和所述缩束镜之间放入待测磁光隔离器,调整所述磁光隔离器使得所述光电传感器件读数最大,旋转所述检偏器,使所述光电传感器件读数为第二最小值Pmin;
e.旋转所述检偏器,使得所述光电传感器件读数为最大值Pmax;
f.将Pmax和Pmin代人公式Ex=Pmax/Pmin,计算出被测器件的消光比Ex。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:在所述磁光隔离器和所述扩束镜之间和所述扩束镜和所述起偏器之间至少一个位置上还包括光阑。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:在所述步骤c中,P1:P2大于105。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:经过所述扩束镜的激光直径至少达到所述磁光隔离器通光口径的90%。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述光电传感器件外部设置有一个用于遮挡杂散光的罩子。
6.一种光学参数测量装置,其包括沿光路依次设置的一个激光器、一个起偏器、一个扩束镜、一个用于安装待测光学元件的工装、一个缩束镜、一个检偏器、一个用于输出光强度信号的光电传感器件,其特征在于,所述光学参数测量装置还包括:
一个第一驱动机构,用于根据一个第一控制信号控制所述起偏器在垂直于光路的平面内移动;
一个第二驱动机构,用于根据一个第二控制信号控制所述待测光学元件在垂直于光路的平面内移动;
一个第一转动机构,用于根据一个第三控制信号控制所述起偏器沿其光轴转动;
一个第二转动机构,用于根据一个第四控制信号控制所述待测光学元件沿其光轴转动;
一个第三转动机构,用于根据一个第五控制信号控制所述检偏器沿其光轴转动;
一个控制单元,用于有选择的输出所述第一控制信号、第二控制信号、第三控制信号、第四控制信号、第五控制信号,还用于接收所述光强度信号来获得光强度的最小值和最大值。
7.根据权利要求6所述的光学参数测量装置,其特征在于,所述第一驱动机构和所述第二驱动机构中的每一个包括垂直于光轴方向的导轨、驱动电机和限位结构,所述第一转动机构、第二转动机构、第三转动机构中的每一个包括一个步进电机,所述控制单元包括PC。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京国科世纪激光技术有限公司,未经北京国科世纪激光技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010539814.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:个性化眼光学模型的构建方法
- 下一篇:口腔正畸平衡矫正器之定向交互牵引扣





