[发明专利]一种防腐蚀碱性显影液组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种碱性显影液组合物，尤其涉及一种防腐蚀低起泡碱性显影液组合物。

背景技术

一般在集成电路(IC)、平板显示器(FPD)等精细图形制作工艺中，通常采用微影法实现规模化生产，该方法包括蚀刻前涂布对活性射线比较敏感的碱溶性光抗蚀剂，以在基片上形成薄膜有选择性地保护抗蚀剂下面的基片不被蚀刻液腐蚀，烘干抗蚀剂以蒸发溶剂，形成干膜，常用的活性射线有紫外(UV/Deep-UV)、X-ray和电子束，经过上述列的光源曝光后，以碱性显影液来显像，完成后的基板再以腐蚀液蚀刻，并移除剩余的光抗蚀剂层，从而获得良好的图像。

在液晶显示器件和半导体器件生产中，用于形成金属电极的基材主要为蒸镀有镍、镍-铬、铬、铬-铝、铝、钼-铝、钼-铝-钼的ITO玻璃。最初的液晶显示屏的金属电极蒸镀材料以铬为主，但由于环保问题比如废水难以处理、回收成本大、易污染等，加之液晶显示屏的尺寸大型化和图像解析度等要求越来越高，而铝导电性能优良，电阻率低，对基板附着力高，价格低廉，因此铝及钼-铝结构的基材逐渐被采用。铝为两性金属，易溶于强碱，也能溶于稀酸，使用碱性显影液时，特别容易发生针对铝的腐蚀，从而影响到图形的良率。在不同的蒸镀工艺条件下，由于铝基材掺杂了不同含量金属钕会使铝有所钝化，趋于纯铝的多孔疏松结构的铝层容易被强碱腐蚀，而致密型铝和高掺杂量的铝层腐蚀较慢。因此对碱敏感的铝材，用微影法制作图像时，常规的显影液很容易腐蚀金属层。

因此需要一种对碱蚀类金属低腐蚀的碱性显影液以改善常规显影液显影后带来的图形不良问题，已知对铝腐蚀有所改善的显影液是通过向碱性水溶液添加金属缓蚀剂调配而成。常见的铝在碱性条件下的金属缓蚀剂有硅酸盐、高锰酸盐，铬酸盐、多羟基结构的糖类和糖醇类、芳香酸类、氨基酸类等，但适用于有机季铵碱类的缓蚀剂较少，且缓蚀剂的添加容易带来各种问题，如图形不良、留膜率低、显影能力变弱或变强、显影后留有黑边等。

在已知公开的国际及国内专利中，有许多针对铝腐蚀的显影液的改进：

中国专利申请号02827571.3提出了包含碱性助洗剂，含钙化合物和螯合剂的光抗蚀剂显影液，该显影液的特点是对铝腐蚀小，在实施例更是给出了助洗剂、螯合剂的种类。但并未涉及本发明的内容。

日本专利申请号8-160634提出，在有机碱中加入0.2～10％多元醇醚可以改善铝腐蚀。

日本申请号64-19344中多元醇的含量加到了20～50％。

中国专利公开号100580561A及1570772A加入了两种以上的1～10％的多元醇，但上述缺点是在以2.38％氢氧化四甲铵为主流的显影液中，多元醇的加入虽然对铝腐蚀减轻了，但显影液的显影能力却大大减弱，以致所需最低曝光能量大大增加，图形更易产生不良，其次，由于多醇物质易与碱发生皂化效应，在喷淋法显影过程不及醇醚类不易起泡，且该专利中并未涉及到消泡剂、显影加速剂等方面的内容。

发明内容

本发明的目的在于解决上述的技术问题，提供一种防腐蚀碱性显影液组合物。

一种防腐蚀碱性显影液组合物，其该组合物含有组分及重量百分含量为，

有机碱水溶液                   0.1～10％；

小分子的多羟基醇或醇醚           2～20％；

显影加速剂(有机胺)                 ＜1％；

消泡剂(聚醚改性有机硅)        0.005～1％。

进一步地，以上所述的一种防腐蚀碱性显影液组合物，其中所述有机碱水溶液为2～8％。

进一步地，以上所述的一种防腐蚀碱性显影液组合物，其中所述小分子的多羟基醇或醇醚质量百分比为4～18％。

进一步地，以上所述的一种防腐蚀碱性显影液组合物，其中所述小分子的多羟基醇或醇醚的选自有2个及2个以上羟基的多羟基化合物及其低聚物中的一种或一种以上组合物。

进一步地，以上所述的一种防腐蚀碱性显影液组合物，其中所述小分子的多羟基醇或醇醚的选自乙二醇、乙二醇甲醚、丙二醇、丙二醇单甲醚、丁二醇、丁二醇甲醚、丁二醇乙醚、丙三醇、丙三醇甲醚、1，2，3，4-戊四醇、1，2，3，4-戊四醇甲醚、木糖醇、木糖醇醚、二甘醇单丁醚、二丙二醇单甲醚，二聚丙二醇的一种或一种以上组合物。