[发明专利]用于化学气相沉积设备的装载室

说明书

本申请是一件分案申请，原案的发明名称是“用于化学气相沉积设备的装载室”，原案的申请号为：200810180988.9，原案的申请日是2008年11月20日。

技术领域

本发明涉及一种装载室，特别是指一种可以凭借强化结构的强度而将结构上的变形最小化，以避免因压差所产生的弯曲应力的用于化学气相沉积设备的装载室。

背景技术

平板显示器是已广泛地应用于电视产品、电脑萤幕、或是个人手提终端机上。而平板显示器可以包括液晶显示器(liquid crystal display，LCD)、等离子显示面板(plasma display panel)、以及有机发光二极管(organic light emitting diode)。在这些平板显示器中，液晶显示器是将介于固态与液态之间的中间物质的液晶，注入在两片薄板的上、下玻璃基板之间的空间，利用一种光开关现象以显示数字或影像，且使用于上、下玻璃基板电极之间的电压差改变液晶分子的方向，以产生不同亮度。

目前液晶显示器广泛地使用于从如电子手表、电子计算机、电视机的电子产品，到车用产品、里程计以及飞机的操作系统等。普遍来说，当显示萤幕的尺寸小于17吋时，液晶显示电视已经具有20到30吋的尺寸。然而，近来比较畅销的液晶显示电视的尺寸是40吋或以上，且电脑萤幕的尺寸也从20吋或以上而继续在增加中。

于是，液晶显示器的制造商是发展较大尺寸基板的制造方法。再者，所谓具有约2公尺水平以及垂直长度的第八代玻璃基板量产，已准备或者是目前正在生产中。液晶显示器是经由一薄膜电晶体阵列制程(TFT Arrayprocess)、一液晶胞制程(Cell process)以及一模块制程(module process)大量制造，其中薄膜电晶体阵列制程包括重复沉积(deposition)、黄光(photolithography)、蚀刻(etching)以及化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)等步骤，液晶胞制程是将上、下玻璃基板附着地相互结合于一起，而模块制程是用来完成液晶显示器产品。

上述薄膜电晶体阵列制程之一的化学气相沉积制程，是在一制程腔室(process chamber)中进行，而制程腔室具有化学气相沉积制程的一最佳环境。特别是，在一短时间内处理多个基板，则广泛地使用具有复数个且以一预定间隔而设置的制程腔室的一化学气相沉积设备。

化学气相沉积设备具有复数个制程腔室以进行一化学气相沉积制程，一装载室(loadlock chamber)以形成在输入一基板到一相对应的制程腔室之前，供将一基板输出到制程腔室的环境，以及一传输腔室(transfer chamber)以连接每一制程腔室与装载室，且具有一机械手臂以将基板由装载室传输到相对应的制程腔室，或是将基板从制程腔室传输到装载室。

一种化学气相沉积制程是在制程腔室中进行，即基板是在高温低压的环境中。因此，难以允许基板在大气压力下直接地输入到高温高压下的制程腔室中，故在将基板传输到相对应的制程腔室之前，制程腔室必须形成如其相同的环境，其是由装载室所完成。也即，装载室容纳基板在大致如制程腔室相同的环境，或是在将基板从外部世界输入到制程腔室之前的相同环境，抑或者是将基板从制程腔室取出到外部世界的相同环境。

近来，所谓的多装载室(multi-loadlock chamber)具有复数个单组腔室用来增加制程效率以及改善生产率。请参考图1以及图2，是表示一现有多装载室10的横断面图。

如图1所示，多装载室10具有一个三单组腔室(unit chamber)的结构，即相互叠置的第一、第二以及第三单组腔室11a、12a、13a，且包括形成在多装载室10的一上表面的一上壁15，形成在多装载室10的一下表面的一下壁16，第一、第二、第三腔架(chamber frame)11、12、13垂直地叠置在上壁15与下壁16之间，一第一隔墙17插设在第一腔架11与第二腔架12之间，以及一第二隔墙18插置在第二腔架12与第三腔架13之间。供基板输出或取出而经过的三个腔槽10a，是形成在多装载室10的相对横向侧。