[发明专利]一种电器清洗剂及其制备方法无效
| 申请号: | 201010535616.0 | 申请日: | 2010-11-04 |
| 公开(公告)号: | CN101982544A | 公开(公告)日: | 2011-03-02 |
| 发明(设计)人: | 李博;李佳;蒋迪波 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
| 主分类号: | C11D7/30 | 分类号: | C11D7/30;C11D7/26 |
| 代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 顾潮琪 |
| 地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电器 洗剂 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种清洗剂。
背景技术
随着电子、电机、精密仪器、树脂加工及精密光学等产业的迅速发展,具有优良性能的清洗剂也得到了广泛的应用。以前使用的ODS(消耗臭氧层物质)清洗剂,包括CFC-113(三氟三氯乙烷)、TCA(三氯乙烷)和CTC(四氯化碳)三种清洗剂,被证明会造成大气层中的臭氧分解,出于对臭氧层的保护,ODS清洗剂已经在国内全面淘汰,于2003年12月终止CTC作为清洗剂的使用,于2005年12月停止CFC-113清洗剂的生产和使用,于2009年12月终止TCA清洗剂的使用。
当前通常采用的方法是选取ODP(消耗臭氧潜能)值较低的溶剂来替代上述这些清洗剂,如氢氟氯烃类、烃类、全氟烃类、氢氟醚类、氯代烃类、氢溴烃类等。
中国发明专利ZL 02137518.6说明书公开了一种电子设备清洗剂,由二氯五氟丙烷和烷烃混合物组成,适用于电子设备清洗。中国发明专利ZL200610060854.4说明书也公开了一种高效电器清洗剂,由二氯五氟丙烷、三氯乙烷以及一氟二氯乙烷组成,清洗能力高。虽然二氯五氟丙烷有很低的ODP值(为0.03),几乎不破坏臭氧层,但是目前市场上二氯五氟丙烷价格较昂贵。
中国专利申请200910047372.9公开了一种电器清洗剂,是一种含有二氯甲烷,四氯乙烯,HCFC-141b的组合物清洗剂,在清洗力、化学稳定性方面,该组合物非常好。HCFC-141b具有较低的ODP值(为0.11),目前还未被禁止使用,价格低廉,而且HCFC-141b具有阻燃性且强挥发性,可以调节产品的挥发度,从而满足于不同的挥发性要求。但该清洗剂中含有的二氯甲烷和四氯乙烯具有毒性,而且刺激性气味强,操作人员很难接受。
发明内容
为了克服现有技术价格昂贵或者含有毒性、气味刺激的不足,本发明提供一种电器清洁剂,刺激性气味小,去污能力强,低毒性,不易燃,价格低廉。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种电器清洗剂,包括以下重量份的组分:
正溴丙烷 24.9~50.7;
异丙醇 7.3~14.8;
HCFC-141b(一氟二氯乙烷) 34.5~67.9。
作为本发明的一个优选方案,所述的电器清洗剂包括以下重量份的组分:
正溴丙烷 37.7;
异丙醇 11;
HCFC-141b(一氟二氯乙烷) 51.3。
本发明还提供了一种上述清洗剂的制备方法:
将重量份为24.9~50.7的正溴丙烷、7.3~14.8的异丙醇和34.5~67.9的HCFC-141b(一氟二氯乙烷)装入密闭反应器内,在50~70℃常压下搅拌反应30分钟即制得。
本发明的有益效果是:
本发明排除了价格昂贵的二氯五氟丙烷和常用的氯代烃类如二氯甲烷、四氯乙烯等有毒性和刺激性的溶剂,选用相对安全的正溴丙烷、异丙醇和HCFC-141b作为本产品的组成部分,因此本发明低毒,低ODP值,几乎不会破坏大气臭氧层,而且刺激性气味小,工人不需要佩戴面罩,操作方便,安全。本发明采用的异丙醇去污脱脂能力强,改善了产品的清洗能力,可去除集成电路板上的焊剂和焊剂残渣,金属材料表面的油渍、胶黏剂、树脂、蜡等污染物。正溴丙烷作为清洗剂的主要成分,具有良好的去污能力和渗透性。HCFC-141b具有阻燃性且挥发性强,可以调节产品的挥发度,从而适用于不同的挥发性要求。此外,本发明采用的组分不易燃,遇明火不燃烧,而且价格低廉。
本发明可用于清洗各种电机、输变电设备、电气控制设备等电气设备的电器清洗剂。本发明还可以用于金属零部件、集成电路板等的除油污、脱脂处理。
下面结合实施例对本发明进一步说明。
具体实施方式
以制备100kg的高效电器清洗剂来详细说明本发明的技术方案。
实施例1:
取24.9kg正溴丙烷、7.3kg异丙醇、67.9kgHCFC-141b,装入密闭反应容器内,在50℃常压下搅拌反应30分钟即制得。
实施例2:
取37.7kg正溴丙烷、11kg异丙醇、51.3kgHCFC-141b,装入密闭反应容器内,在60℃常压下搅拌反应30分钟即制得。
实施例3:
取50.7kg正溴丙烷、14.8kg异丙醇、34.5kgHCFC-141b,装入密闭反应容器内,在70℃常压下搅拌反应30分钟即制得。
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