[发明专利]紫外固化系统无效
| 申请号: | 201010534873.2 | 申请日: | 2007-03-19 |
| 公开(公告)号: | CN102136411A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
| 发明(设计)人: | 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯;托马斯·诺瓦克;戴尔·R·杜·博伊斯;萨尼夫·巴鲁贾;斯科特·A·亨德里克森;达斯廷·W·胡;安德兹·卡祖巴;汤姆·K·乔;希姆·M·萨德;恩德卡·O·米科蒂 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/3105;C23C16/56 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 紫外 固化 系统 | ||
1.一种衬底处理设备,包括:
限定衬底处理区的主体;
在所述衬底处理区内用于支撑衬底的衬底支架;
与所述衬底支架间隔的紫外辐射灯,所述灯用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射;以及
有效连接的电机,其用于使所述紫外辐射灯或衬底支架至少其中之一相对彼此旋转至少180度。
2.根据权利要求1所述的衬底处理设备,其特征在于,还包括一个或多个反射器,其用于在具有互补高、低亮度区域的所述衬底上产生紫外辐射的泛光图案,并当旋转时,所述互补高、低亮度区域结合产生基本均匀的辐射图案。
3.根据权利要求2所述的衬底处理设备,其特征在于,所述紫外辐射灯包括细长紫外辐射源,而一个或多个反射器包括部分包围所述细长辐射源的主反射器。
4.根据权利要求3所述的衬底处理设备,其特征在于,一个或多个反射器还包括设置于所述主反射器和衬底支架之间的副反射器,以及其中所述主反射器用于将紫外辐射从所述辐射源反射至所述衬底支架并且所述副反射器用于减少在所述衬底外部损失的光。
5.一种衬底处理设备,包括:
限定衬底处理区的主体:
在所述衬底处理区内用于支撑衬底的衬底支架;以及
第一紫外灯,其与所述衬底支架间隔设置并设计用于向所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射,其中所述第一紫外灯包括第一紫外辐射源和部分包围所述第一紫外辐射源的第一反射器,其中所述第一反射器具有相对的内反射板和外反射板,所述内反射板具有第一反射表面,而所述外反射板具有与第一反射表面不对称的第二反射表面。
6.根据权利要求5的衬底处理设备,其特征在于,还包括:
第二紫外灯,其与衬底支架间隔设置并设计用于向所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射,其中所述第二紫外灯包括第二紫外辐射源和部分包围所述第二紫外辐射源的第二反射器,其中所述第二反射器具有相对的内反射板和外反射板,内反射板具有第三反射表面,而所述外反射板具有与所述第三反射表面不对称的第四反射表面。
7.根据权利要求6的一种衬底处理设备,其特征在于,还包括设置于所述第一反射器、第二反射器以及衬底支架之间的第三反射器,其中所述第三反射器用于减少衬底外部的紫外辐射损失。
8.根据权利要求6所述的衬底处理设备,其特征在于,还包括使所述衬底处理区与所述第一和第二紫外灯分开的窗口,其中设置所述窗口从而在紫外辐射到达所述衬底之前通过所述窗口透射紫外辐射。
9.根据权利要求6所述的衬底处理设备,其特征在于,所述第一紫外灯以相对垂直方向呈2-25度之间的角度安装,以及所述第一和第二不对称的反射表面用于产生补偿所述角度的辐射图案。
10.一种固化形成于衬底上的介电材料层的方法,所述方法包括:
在衬底处理腔室中将具有所述介电材料形成于其上的衬底放置于衬底支架上;以及
通过利用细长紫外源产生的辐射将衬底暴露于紫外辐射中并利用部分包围所述辐射源并彼此不对称的第一和第二反射表面改并由所述紫外源产生的所述紫外辐射的方向。
11.一种衬底处理设备,其特征在于,包括:
限定衬底处理区的主体;
在所述衬底处理区内用于支撑衬底的衬底支架;
紫外辐射灯,其与衬底支架间隔设置并且设计用于产生并向所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射,所述紫外辐射灯包括紫外辐射源和部分包围所述紫外辐射源的主反射器,具有反射表面的所述主反射器包括至少一抛物面段和至少一椭圆段。
12.根据权利要求11所述的衬底处理设备,其特征在于,所述主反射器包括相对的内反射板和外反射板,其中所述每个反射板具有包括至少一抛物面段和至少一椭圆段的反射表面。
13.根据权利要求12所述的衬底处理设备,其特征在于,所述至少一个椭圆段具有非聚焦的椭圆曲率。
14.根据权利要求13所述的衬底处理设备,其特征在于,所述至少一个抛物面段反射互相不平行的光线。
15.根据权利要求12所述的衬底处理设备,其特征在于,所述内反射板和相对的外反射板的反射表面为彼此不对称的形状。
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