[发明专利]基板的处理方法、程序和计算机存储介质

权利要求书

1.一种基板的处理方法，用于在基板上形成抗蚀剂图案，该基板的处理方法的特征在于，包括：

第一图案化工序，在基板上涂敷抗蚀剂液形成第一抗蚀剂膜后，有选择地将该第一抗蚀剂膜曝光、显影从而形成第一抗蚀剂图案；

表面改性工序，在所述第一图案化工序之后，在所述第一抗蚀剂图案的表面涂敷醚类表面改性剂，对该表面进行改性；和

第二图案化工序，在所述表面改性工序后，在形成有所述第一抗蚀剂图案的基板上涂敷抗蚀剂液形成第二抗蚀剂膜，之后有选择地将该第二抗蚀剂膜曝光、显影从而在与所述第一抗蚀剂图案相同的层形成第二抗蚀剂图案。

2.如权利要求1所述的基板的处理方法，其特征在于：

在所述表面改性工序中，利用所述表面改性剂除去所述第一抗蚀剂图案的表层，并将新露出的所述第一抗蚀剂图案的表面改性。

3.如权利要求1或2所述的基板的处理方法，其特征在于：

在所述第二图案化工序中，所述第二抗蚀剂膜按照下述方式形成：在使基板静止的状态下向该基板的中心部供给抗蚀剂液后，使基板旋转而使所述抗蚀剂液扩散到基板整个面上。

4.如权利要求1或2所述的基板的处理方法，其特征在于：

所述表面改性剂是甲基异丁基甲醇。

5.如权利要求1或2所述的基板的处理方法，其特征在于：

所述表面改性剂是丙二醇丁醚。

6.一种计算机存储介质，其特征在于：

存储有权利要求1或2所述的程序，并为能够读取的计算机存储介质。