[发明专利]一种高阻硅的电阻率测试方法无效
申请号: | 201010520562.0 | 申请日: | 2010-10-27 |
公开(公告)号: | CN102012461A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 黎亚文;杨旭 | 申请(专利权)人: | 峨嵋半导体材料研究所 |
主分类号: | G01R27/14 | 分类号: | G01R27/14 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 徐宏;吴彦峰 |
地址: | 614200*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高阻硅 电阻率 测试 方法 | ||
1.一种高阻硅的电阻率测试方法,其特征在于,包含以下步骤:
(1)将数控恒流源与直排四探针中的探针1和探针4相连接,测试设备与所述直排四探针中的探针2和探针3相连接;
(2)将所述数控恒流源开机预热30分钟;
(3)处理待测硅晶体的表面:喷砂去除所述待测硅晶体表面的玷污和表面氧化层,再用酒精将所述待测硅晶体擦净;
(4)在无光照的环境中,调节室温和相对湿度,并且将经处理的所述待测硅晶体放置于测试台上;
(5)调整所述直排四探针的高度使其与所述待测硅晶体相压合,此时所述数控恒流源通过所述探针1和所述探针4向所述待测硅晶体输出测试电流,其中所述测试电流的数值与所述直排四探针的探针系数相等;
(6)向所述测试设备中输入所述待测硅晶体的类型、厚度、室温以及相对湿度,经所述测试设备分析后开始测试;
(7)待测试完成后,所述测试设备将所有测试点的数据以电子表格的形式输出。
2.如权利要求1所述的高阻硅的电阻率测试方法,其特征在于,步骤(6)中所述室温在21~25℃之间,所述相对湿度≤65%。
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