[发明专利]一种控制离子均匀注入的二维扫描方法

权利要求书

1.一种控制离子均匀注入的二维扫描方法，包括水平方向的静电扫描和垂直方向的机械扫描，所述的静电扫描控制离子束进行水平方向的均匀扫描，扫描电压波形(8)通过移动法拉第(3)检测离子束流在水平方向的分布并计算修正获得；所述的垂直方向的机械扫描，由运动控制器(2)控制直线电机(5)带动需注入的硅片进行穿越离子束的垂直方向的匀速扫描，并在运动的过程中向剂量控制器(1)发送扫描同步信号(7)。

2.如权利要求1所述的一种离子均匀注入的二维扫描控制方法，其特征在于，控制水平方向的静电扫描的扫描电压波形(8)是根据移动法拉第(3)对离子束流在水平方向的分布状态检测，再通过特定的修正算法，经过多次重复修正获得。

3.如权利要求1所述的一种离子均匀注入的二维扫描控制方法，其特征在于，运动控制器(2)在控制直线电机(5)进行垂直方向的机械扫描的同时，向剂量控制器(1)发送扫描同步信号(7)。

4.如权利要求1所述的一种离子均匀注入的二维扫描控制方法，其特征在于，由剂量控制器(1)控制的静电扫描和由运动控制器(2)控制的机械扫描之间通过扫描同步信号(7)进行协调配合。